涂布机

旋转涂布机是半导体制程中重要的前段设备之一，主要用于在晶圆表面均匀涂布光阻或其他薄膜材料。其运作原理是将液态光阻滴置于晶圆中心，透过高速旋转产生离心力，使材料均匀展开并形成精确厚度的薄膜。涂布质量直接影响后续曝光与显影制程的分辨率与稳定性，因此对转速控制、加速度、涂布时间及环境洁净度均有严格要求。现代旋转涂布机通常配备自动化控制系统与精密流量管理，以确保膜厚一致性与制程重现性。随着先进制程发展，对薄膜均匀性与缺陷控制的要求日益提高，使旋转涂布机成为确保芯片质量与良率的重要设备之一。