工程研发常见问题
聚焦曝光设备的工程设计与系统整合,涵盖光源管理、照度量测、设备结构与控制架构等技术议题。透过工程与研发角度解析设备关键模块与设计考虑,协助使用者在制程开发与设备优化阶段,做出更合适的技术选择。
光源、照度与量测
一台曝光机光源功率为 200 W,照射面积是 100 cm²,请问照度是多少?
计算方式是功率除以面积,200 ÷ 100 = 2 W/cm²。

曝光机曝光时如何判断曝光能量到达?
- 有两种模式:
- 利用预先输入的照度来计算需要多少时间能到达所需要能量
- 利用感测计实时检测累计能量
照度衰退的检查项目有哪些?
- 紫外线灯泡(汞灯)衰减,紫外线灯泡(汞灯)异常衰减检查内容:
- 检查紫外线灯泡(汞灯)功率、电压和电流,是否正确(标准值可参考汞灯灯盒)。
- 紫外线灯泡(汞灯)的位置是否正确,X、Y、Z轴需调至最佳位置。
- 反光碗是否有氧化。
- Fly eye是否有雾化。
- 更换紫外线灯泡(汞灯),确认是否有瑕疵。
- 确认照度计是否有问题。
汞灯可以用多久?
汞灯的使用年限,主要是点击次数和使用时数有关系,
正常使用状态:350W、500W、1000W、2000W & 5000W各不同
提醒您,曝光系统有数种光学组件,大部分组件皆有涂布独特的光学镀膜,此光学镀膜会因为时间、温度、湿度及酸碱PH值产生损耗,建议将固定检查点检其功能性及外观有无异常,并加以记录,有任何问题请直接请教专业的M&R咨询
2KW汞汞灯寿命为何?
2KW汞灯寿命是1000小时。
汞灯关闭后再次点击需等几分钟?
汞灯关闭后再次点击需等30分钟
设备结构与关键模块
Flag的功用是甚么?
Flag为一可伸缩或旋转部件,前方固定陶瓷球,当基板与光罩整平时,陶瓷球充当两者之间接触介质,来避免光阻污染光罩
什么是 Mask Holder?
Mask Holder是固定光罩的平台,光罩放置于该平台定位后利用真空吸附光罩。
如何更换光罩?
设备分为上置式、下置式固定光罩,上置式为将光罩直接真空吸附于光罩固定板(Mask Holder)上方,所以交换光罩可以直接解除真空重新放置它片光罩后真空吸附。下置式需先将Mask Holder抽出后翻面,解真空后更换光罩吸附后Mask Holder放回。另本公司有下置式光罩更换治具,可辅助下置光罩固定简易的更换光罩,不需取出Mask Holder即可轻松更换光罩
曝光设备(Exposure)需考虑那些作业参数?
芯片平整性、光罩与芯片对位精度
控制系统与自动化
曝光机的控制系统多使用哪种架构?
通常为 工控机 (IPC) + PLC + 运动控制卡 组合;IPC 负责算法与人机接口,PLC 负责安全逻辑,运动控制卡处理高速 stage 动作
自动化系统设备是使用什么架构?
工控计算机与设备和主控端沟通用的通讯协议(SECS/GEM)
自动化系统使用哪些通讯协议(SECS/GEM)?
工控计算机与设备和主控端沟通用的通讯协议(SECS/GEM)