LDI雷射直写曝光机 | 台湾高品质LDI雷射直写曝光机制造商 | 科毅科技股份有限公司
科毅是台湾专业制造LDI雷射直写曝光机及提供LDI雷射直写曝光机服务的优良厂商(成立于西元2000年)拥有超过25年的服务经验，M&R专注于定制化与自动化的黄光制程解决方案，提升制造效率与制程稳定性。
LDI雷射直写曝光机
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直写曝光机是一种利用雷射光直接在光阻上绘制图案的技术，省去传统光罩制作步骤。它广泛应用于PCB制造、半导体微影及薄膜组件，具有高精度、灵活快速及适合小批量生产的优点。
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直写曝光机是一种先进的微影技术，利用精密雷射光直接在光阻层上绘制所需的电路图案，无需使用传统的光罩（mask）。这种技术大幅简化了制程流程，缩短设计更改与生产准备时间，特别适合小批量及多样化产品的快速制造需求。
LDI 系统通常配备高精度雷射光源、光学扫描系统及精密运动平台，确保图案曝光的分辨率与位置精度。其分辨率可达微米甚至亚微米级，能满足高密度印刷电路板（PCB）、半导体芯片、薄膜组件及微机电系统（MEMS）等多种应用需求。由于不需要制作和更换光罩，LDI 也降低了成本，并减少了光罩瑕疵对成品的影响。
此外，LDI 支持多种基板材质与尺寸，具有自动对焦和多点定位功能，能适应不同材料的表面形态和厚度变化。
LDI 技术在快速原型开发、研发实验和中小批量生产中具有重要地位，推动电子制造业向更灵活、高效方向发展。LDI 曝光机将数字化设计与物理曝光直接结合，透过免光罩、高分辨率、高灵活性和自动对位的优势，成为当代需要快速迭代设计、追求微细线宽和高精度对位的先进制程中的理想解决方案。
科毅LDI雷射直写曝光机的优势
科毅公司提供的桌上型 LDI 雷射直写曝光机，是一种精巧型雷射直写系统（SCLDI），专为实验科研、快速原型设计及小批量生产而开发。该设备的核心功能是利用高精度激光束直接在涂有光阻的基板上绘制所需的电路图案，从而替代传统光罩曝光，有效降低光罩制作成本和时间，并具备高精度、灵活快速的优点，修改设计只需改动图档即可。
- 核心性能与规格：该桌上型 LDI 系统提供了优异的微影能力，适用于 2 至 6 英吋的晶圆（含方形），基板厚度介于 0.3～6 mm。
- 分辨率与精度：系统具备极高的分辨率，在 20X 物镜下，最小线宽（CD）可达 ≥0.8um，且 CD 均匀性（CDU）优于 ≤ ± 0.15um。最高的拼接精度可控制在 ≤0.2um，数据分辨率 ≥20 nm。
- 对位能力：系统支持多层图形对齐，在 20X 物镜下，对位精度（Overlay）可达 ≤ ±0.5um。
- 书写效率：虽然专为研发设计，但仍具备一定的效率，例如在 4X 物镜下，书写效率可达 240 mm²/min（以6英吋晶圆计）。
- 技术架构与模块：该 LDI 系统采用集成化设计，以确保曝光的稳定性和准确性。
- 光源与光学：标准配置为 10 W@405nm 雷射光源，亦可客制化 2W@375nm。系统具备 4X, 10X, 20X 三款物镜的全自动切换设计。
- 高精度运动平台：采用高精度大理石基座（平整度要求≥3um）和死循环直驱线性平台（精度 20 nm）作为核心运动基座。
- 自动对焦与稳定性：具备 Real time 实时自动对焦（AF）功能，在 20X下的精度可达 800 nm。系统还设有多重隔振防护、周期自动校准和水冷环控降温功能，并配备温湿度同步监控，确保制程稳定性。
- 操作与软件：采用人工（手动）上料方式，建议在 Class 1000 洁净室内使用。控制软件为自研，支持 Gerber274、GDS、DXF 等多种数据格式。
科毅的桌上型 LDI 系统具有极高的精度和设计灵活性，能有效解决光罩成本高、制程切换慢、图样精度不足等问题，是追求灵活、高效、微影质量的团队和科研和开发环境中实现快速原型开发和多层曝光对准的理想选择。
产品规格
- 基板类型：Wafer
- 基板尺寸：2 - 6 inch， 最小12mmx12mm，最大150mmx150mm
- 基板厚度： 0.3~6 mm
- 最小线宽（CD）： ≥3μm @4X，≥1.5μm @10X，≥0.8μm @20X
- CD均匀性（CDU）： ≤±0.3 @4X 3μm，≤±0.2 @10X 1.5μm，≤±0.15 @20X 0.8μm
- 拼接 ：≤0.2μm
- 对位精度：4X ≤±1μm
- 对位精度：10X ≤±1μm
- 对位精度：20X ≤±0.5μm
- 靶点识别：圆Pad，十字mark， 其他类型可升级
- 对位模式：全局or局部
- 书写效率：4X 240mm²/min @6inch
- 书写效率：10X 60mm²/min @6inch
- 书写效率：20X 15mm²/min @6inch
- 物镜切换：自动
- 光源类型：10W @405 nm， 可定制2W@375nm
- 激光寿命：8000H 衰退50%定义不能使用
- 上下料：人工
- AF(实时聚焦模块) 范围：0~150μm
- 行程：10mm
- 4X精度：8000nm
- 10X精度：1500nm
- 20X精度：800nm
- 平台-高精度大理石基座：平整度≥3μm
- 电动工作台类型：死循环直驱线性平台(无丝杠)
- 行程：200mm
- 精度：20nm(编码器分辨率)
- 双向精度：士300nm
- 旋转位移台 自动调节(直线式位移台)
- 设备尺寸：主机:95cmx85cmx100cm±50mm
- 数据格式：Gerber274，ODB++，GDS，DXF
- Overlay(正面对位)：≤±1μm @4X，≤±1μm @10X，≤±0.5μm @20X
产品配备
- 雷射光源 提供高精度的雷射束/光学扫描系统/运动平台（X、Y轴）
- 光阻涂布与软烤装置 /自动对焦系统/控制系统与软件
- 防护罩与安全系统/ 定位与校准系统
应用产业
- 印刷电路板（PCB）制造
- 半导体制程
- 显示面板与薄膜组件
- 封装技术
- 微機電系統（MEMS）
- 其他高精度微影需求
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科毅 LDI雷射直写曝光机简介
科毅科技股份有限公司是台湾一家拥有超过25年经验的专业LDI雷射直写曝光机生产制造服务商。 我们成立于西元2000年, 在服务半导体、光电子和先进制造市场领域上, 科毅提供专业高品质的LDI雷射直写曝光机制造服务, 科毅 总是可以达成客户各种品质要求。