LDI雷射直寫曝光機 | 台灣高品質LDI雷射直寫曝光機製造商 | 科毅科技股份有限公司
科毅是台灣專業製造LDI雷射直寫曝光機及提供LDI雷射直寫曝光機服務的優良廠商(成立於西元2000年)擁有超過25年的服務經驗，M&R專注於客製化與自動化的黃光製程解決方案，提升製造效率與流程穩定性。
LDI雷射直寫曝光機
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直寫曝光機是一種利用雷射光直接在光阻上繪製圖案的技術，省去傳統光罩製作步驟。它廣泛應用於PCB製造、半導體微影及薄膜元件，具有高精度、靈活快速及適合小批量生產的優點。
Laser Direct Imaging（LDI）雷射直寫曝光機透過高精度雷射光源、光學掃描系統與精密運動平台，將數位化設計直接轉換為曝光圖案，無需製作與更換傳統光罩，不僅大幅簡化製程流程，也能有效縮短設計修改與生產準備時間。其曝光解析度可達微米甚至亞微米等級，能滿足高密度 PCB、半導體微影、薄膜元件與 MEMS 等應用對線寬與對位精度的要求。LDI 系統同時支援多種基板材質與尺寸，並具備自動對焦與多點定位功能，可因應不同材料表面形態與厚度變化，確保穩定的曝光品質。由於免除光罩相關成本與瑕疵風險，LDI 特別適合快速原型開發、研發實驗，以及中小批量與多樣化產品的製造需求，在追求高靈活度、高精度與快速迭代的先進製程中，成為兼顧效率與品質的重要曝光解決方案。
科毅LDI雷射直寫曝光機的優勢
科毅公司提供的桌上型 LDI 雷射直寫曝光機，是一種精巧型雷射直寫系統（SCLDI），專為實驗科研、快速原型設計及小批量生產而開發。該設備的核心功能是利用高精度雷射光束直接在塗有光阻的基板上繪製所需的電路圖案，從而替代傳統光罩曝光，有效降低光罩製作成本和時間，並具備高精度、靈活快速的優點，修改設計只需改動圖檔即可。
- 核心性能與規格：該桌上型 LDI 系統提供了優異的微影能力，適用於 2 至 6 英吋的晶圓（含方形），基板厚度介於 0.3～6 mm。
- 解析度與精度：系統具備極高的解析度，在 20X 物鏡下，最小線寬（CD）可達 ≥0.8um，且 CD 均勻性（CDU）優於 ≤ ± 0.15um。最高的拼接精度可控制在 ≤0.2um，數據解析度 ≥20 nm。
- 對位能力：系統支援多層圖形對齊，在 20X 物鏡下，對位精度（Overlay）可達 ≤ ±0.5um。
- 書寫效率：雖然專為研發設計，但仍具備一定的效率，例如在 4X 物鏡下，書寫效率可達 240 mm²/min（以6英吋晶圓計）。
- 技術架構與模組：該 LDI 系統採用集成化設計，以確保曝光的穩定性和準確性。
- 光源與光學：標準配置為 10 W@405nm 雷射光源，亦可客製化 2W@375nm。系統具備 4X, 10X, 20X 三款物鏡的全自動切換設計。
- 高精度運動平臺：採用高精度大理石基座（平整度要求≥3um）和閉環直驅線性平臺（精度 20 nm）作為核心運動基座。
- 自動對焦與穩定性：具備 Real time 即時自動對焦（AF）功能，在 20X下的精度可達 800 nm。系統還設有多重隔振防護、週期自動校准和水冷環控降溫功能，並配備溫濕度同步監控，確保製程穩定性。
- 操作與軟體：採用人工（手動）上料方式，建議在 Class 1000 潔淨室內使用。控制軟體為自研，支援 Gerber274、GDS、DXF 等多種資料格式。
科毅的桌上型 LDI 系統具有極高的精度和設計靈活性，能有效解決光罩成本高、製程切換慢、圖樣精度不足等問題，是追求靈活、高效、微影品質的團隊和科研和開發環境中實現快速原型開發和多層曝光對準的理想選擇。
產品規格
- 基板類型：Wafer
- 基板尺寸：2 - 6 inch， 最小12mmx12mm，最大150mmx150mm
- 基板厚度： 0.3~6 mm
- 最小線寬（CD）： ≥3μm @4X，≥1.5μm @10X，≥0.8μm @20X
- CD均勻性（CDU）： ≤±0.3 @4X 3μm，≤±0.2 @10X 1.5μm，≤±0.15 @20X 0.8μm
- 拼接 ：≤0.2μm
- 對位精度：4X ≤±1μm
- 對位精度：10X ≤±1μm
- 對位精度：20X ≤±0.5μm
- 靶點識別：圓Pad，十字mark， 其他類型可升級
- 對位元模式：全域or局部
- 書寫效率：4X 240mm²/min @6inch
- 書寫效率：10X 60mm²/min @6inch
- 書寫效率：20X 15mm²/min @6inch
- 物鏡切換：自動
- 光源類型：10W @405 nm， 可定制2W@375nm
- 鐳射壽命： 8000H 衰退50%定義不能使用
- 上下料 ：人工
- AF(即時聚焦模組) 範圍:0~150μm
- 行程：10mm
- 4X精度: 8000nm
- 10X精度: 1500nm
- 20X精度: 800nm
- 平臺-高精度大理石基座：平整度≥3μm
- 電動工作臺類型: 閉環直驅線性平臺(無絲杠)
- 行程: 200mm
- 精度: 20nm(編碼器解析度)
- 雙向精度: 士300nm
- 旋轉位移臺 自動調節(直線式位移臺)
- 設備尺寸 ：主機:95cmx85cmx100cm±50mm
- 資料格式： Gerber274，ODB++，GDS，DXF
- Overlay(正面對位) ：≤±1μm @4X，≤±1μm @10X，≤±0.5μm @20X
產品配備
- 雷射光源 提供高精度的雷射束/光學掃描系統/運動平台（X、Y軸）
- 光阻塗佈與軟烤裝置 /自動對焦系統/控制系統與軟體
- 防護罩與安全系統/ 定位與校準系統
應用產業
- 印刷電路板（PCB）製造
- 半導體製程
- 顯示面板與薄膜元件
- 封裝技術
- 微機電系統（MEMS）
- 其他高精度微影需求
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科毅 LDI雷射直寫曝光機簡介
科毅科技股份有限公司是台灣一家擁有超過25年經驗的專業LDI雷射直寫曝光機生產製造服務商。 我們成立於西元2000年, 在服務半導體、光電子和先進製造市場領域上, 科毅提供專業高品質的LDI雷射直寫曝光機製造服務, 科毅 總是可以達成客戶各種品質要求。