光罩 | 台灣高品質光罩製造商 | 科毅科技股份有限公司
科毅是台灣專業製造光罩及提供光罩服務的優良廠商(成立於西元2000年)擁有超過25年的服務經驗，M&R專注於客製化與自動化的黃光製程解決方案，提升製造效率與流程穩定性。
光罩
科毅科技提供高解析度、低缺陷的光罩製作服務，支援 MEMS、光電、感測器與半導體等微影製程需求。採用高平坦度基板與高品質鉻膜，確保曝光圖樣能精準轉移至光阻層，協助客戶提升曝光成功率、縮短研發與試產週期。無論應用於研發驗證、原型製作或小量試產，皆能提供穩定可靠的製程支援。
在材料與製作品質上，科毅科技可依據客戶版圖與製程需求，選用石英或玻璃等高平坦度基板，搭配具備良好光學穩定性的鉻膜（Cr）或專用光學材料，支援從微米級到奈米級線寬的圖樣轉移。同時提供完整的前後段配套服務，包含版圖檢查、資料轉換、尺寸驗證與瑕疵檢測，讓客戶能安心專注於製程開發與量產導入。快速交期與穩定品質，使科毅成為眾多學研單位與產業客戶長期合作的光罩服務夥伴。
科毅的光罩技術與服務優勢
科毅科技提供光罩製作與完整技術支援服務，涵蓋用於原始圖案的母片 (Main Mask)，以及提供的複製子片 (Re-produce Mask) 服務。光罩尺寸涵蓋了多種業界標準，常規尺寸從 4" 到 9" 不等，並能支援最大至 24" 的超大尺寸製作。光罩基板材料選擇多樣，包括常見的 Soda Lime (鈉鈣玻璃)、高階的 Quartz (石英) 和 Fused (熔融石英)，以及 Mylar Film 和 Emulsion 等，以滿足不同製程的需求。
光罩的製作遵循嚴謹的六步驟流程：從開始的 CAD 設計、CAM 轉換，進入實際的製作環節，隨後進行嚴格的清洗和檢驗，最終才能出貨，確保每一片光罩皆符合品質與製程要求。此外，科毅科技憑藉超過 25 年的黃光製程經驗，提供先進的光罩更換技術。該技術專注於提升接觸式光刻設備的光罩更換效率與定位精準度，透過優化的機構設計、真空吸持平臺和精密定位模組（如三點等高 PIN），確保光罩能快速、準確就位，並適用於 2 吋至 12 吋晶圓的半自動曝光機。
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科毅 光罩簡介
科毅科技股份有限公司是台灣一家擁有超過25年經驗的專業光罩生產製造服務商。 我們成立於西元2000年, 在服務半導體、光電子和先進製造市場領域上, 科毅提供專業高品質的光罩製造服務, 科毅 總是可以達成客戶各種品質要求。