Hệ thống làm sạch mặt nạ MCS (loại khô) | M&R CÔNG NGHỆ NANO Thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện tử
Hệ thống loại bỏ bụi bằng dao khí MCS là một giải pháp giặt khô cấp công nghiệp được phát triển bởi M&R cho các ứng dụng yêu cầu độ sạch cực cao và kiểm soát ô nhiễm. Sử dụng luồng không khí tốc độ cao từ dao khí, hệ thống loại bỏ hiệu quả các hạt nano và vi mô trong một quy trình hoàn toàn không tiếp xúc, làm cho nó đặc biệt phù hợp cho các mặt nạ quang học bán dẫn, đĩa wafer và các linh kiện chính xác có giá trị cao khác. Được thiết kế để tích hợp liền mạch vào các môi trường sản xuất tiên tiến, MCS giúp giảm nguy cơ ô nhiễm, cải thiện hiệu suất quy trình và nâng cao sự ổn định tổng thể của sản xuất mà không cần sử dụng nước, hóa chất hoặc dung môi.Chọn M&R CÔNG NGHỆ NANO cho thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện chất lượng cao và sản xuất tùy chỉnh đáng tin cậy.
Hệ thống làm sạch mặt nạ MCS (loại khô)
Hệ thống loại bỏ bụi bằng dao khí MCS là một giải pháp giặt khô cấp công nghiệp được phát triển bởi M&R cho các ứng dụng yêu cầu độ sạch cực cao và kiểm soát ô nhiễm. Sử dụng luồng không khí tốc độ cao từ dao khí, hệ thống loại bỏ hiệu quả các hạt nano và vi mô trong một quy trình hoàn toàn không tiếp xúc, làm cho nó đặc biệt phù hợp cho các mặt nạ quang học bán dẫn, đĩa wafer và các linh kiện chính xác có giá trị cao khác. Được thiết kế để tích hợp liền mạch vào các môi trường sản xuất tiên tiến, MCS giúp giảm nguy cơ ô nhiễm, cải thiện hiệu suất quy trình và nâng cao sự ổn định tổng thể của sản xuất mà không cần sử dụng nước, hóa chất hoặc dung môi.
Tính năng thiết bị
Hệ thống MCS sử dụng một quy trình làm sạch vật lý độc đáo ba giai đoạn, bao gồm trung hòa điện tích tĩnh, rung siêu âm truyền qua không khí và thổi khí hình M áp suất thấp chính xác. Thiết kế này cho phép loại bỏ hiệu quả các hạt trong khoảng từ 0,5 đến 5 micromet, đạt được tỷ lệ giảm hạt lên đến 99% trong khi đảm bảo rằng các lớp màng nhạy cảm và bề mặt mặt nạ không bị căng thẳng cơ học hoặc biến dạng.
Hệ thống hỗ trợ xử lý tự động với việc lật robot, nhận dạng mã vạch và RFID, và giao tiếp SEMI E121, cho phép tích hợp liền mạch với tự động hóa fab và hệ thống logistics mặt nạ. Những tính năng này làm cho MCS trở thành một công cụ thiết yếu cho các môi trường lithography tiên tiến, bao gồm các quy trình EUV, ArF và KrF, nơi độ sạch sẽ ảnh hưởng trực tiếp đến năng suất, tuổi thọ mặt nạ và độ tin cậy trong sản xuất.
Thông số kỹ thuật
- Cấu trúc đơn vị chính: Khung thép/aluminum hợp kim có độ bền cao
- Dao khí: Hợp kim kim loại chống mài mòn hoặc hợp kim nhôm cao cấp
- Ống dẫn không khí và vòi phun: Kim loại gia công chính xác cao
- Bộ điều khiển và bảng điều khiển: Linh kiện điện tử công nghiệp và bảng điều khiển
- Cơ chế truyền động: Servo hoặc truyền động khí nén độ tin cậy cao
Cấu hình
- Máy chính: Bao gồm mô-đun dao khí và mạch khí điều khiển
- Hệ thống điều khiển: PLC/bảng cảm ứng, cài đặt tham số tự động
- Giao diện nguồn khí: Cung cấp khí nén và ống dẫn
- Thiết bị an toàn/bảo vệ: Dừng khẩn cấp, chắn an toàn, cảm biến
- Khung hỗ trợ/cơ sở: Có thể tích hợp với dây chuyền sản xuất hoặc thiết bị chuyển giao
- Giao diện giám sát dữ liệu: Hiển thị trạng thái hoạt động và thống kê loại bỏ bụi
Tùy chọn
- Nền tảng định vị chính xác cao (tích hợp động với dây chuyền sản xuất)
- Thiết bị kiểm tra kích thước hạt
- Nhiều vòi khí và mô-đun xi lanh khác nhau
- Giao diện cấp/phát tự động cho dây chuyền sản xuất
- Hệ thống giám sát độ sạch
- Hệ thống thu gom bụi chân không tích hợp hoặc ống xả
Ứng dụng
- Vệ sinh và loại bỏ bụi photomask bán dẫn (photomask loại EUV, ArF, KrF)
- Vệ sinh bề mặt wafer chính xác (MSP, phơi wafer)
- Quy trình sản xuất độ sạch cao: như quy trình quang điện, sản xuất ống kính chính xác
- Xử lý linh kiện quang: như màn hình phẳng, kính quang học
- Môi trường sản xuất chính xác: bất kỳ môi trường nào yêu cầu loại bỏ bụi không tiếp xúc
Tải xuống Sản phẩm hot
Hệ thống làm sạch mặt nạ MCS (loại khô)Thiết bị Quy trình Bán dẫn & Quang điện Tùy chỉnh Chuyên nghiệp
M&R CÔNG NGHỆ NANO cung cấp Hệ thống làm sạch mặt nạ MCS (loại khô) chất lượng cao và thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện được thiết kế cho các ứng dụng bán dẫn, quang điện và thử nghiệm tiên tiến.Dòng sản phẩm của chúng tôi bao gồm các máy căn chỉnh mặt nạ chi tiết, máy phủ spin và máy phát triển được sản xuất tại cơ sở của chúng tôi ở Đài Nguyên, Đài Loan với khả năng tự động hóa mạnh mẽ.
Chúng tôi tập trung vào việc cung cấp chất lượng ổn định và tùy chỉnh chính xác thông qua công nghệ R&D và thu nhỏ trong nhà. Điều này đảm bảo rằng mỗi hệ thống đáp ứng các yêu cầu quy trình nghiêm ngặt trong khi vẫn duy trì độ bền thực tế, chi phí thấp và hiệu quả cao cho người dùng cuối.
Đối với các nhà mua sắm toàn cầu, M&R CÔNG NGHỆ NANO cung cấp hỗ trợ sản xuất đáng tin cậy giúp đơn giản hóa quy trình tìm nguồn. Chúng tôi cung cấp giao tiếp nhanh nhạy, tích hợp tự động hóa hiệu quả và bảo trì sau bán hàng nhất quán để giúp khách hàng thành công đưa thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện của họ vào sản xuất.