MCS मास्क क्लीनर सिस्टम (ड्राई प्रकार) | M&R नैनो प्रौद्योगिकी सेमीकंडक्टर & ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण
MCS एयर-नाइफ डस्ट रिमूवल सिस्टम एक औद्योगिक-ग्रेड ड्राई क्लीनिंग समाधान है जिसे M&R द्वारा विकसित किया गया है, जो अत्यधिक स्वच्छता और संदूषण नियंत्रण की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए है। उच्च गति वाले एयर-नाइफ एयरफ्लो का उपयोग करते हुए, यह प्रणाली पूरी तरह से गैर-संपर्क प्रक्रिया में नैनो और माइक्रो-स्तरीय कणों को प्रभावी ढंग से हटा देती है, जिससे यह सेमीकंडक्टर फोटोमास्क, वेफर्स और अन्य उच्च-मूल्य वाले सटीक घटकों के लिए विशेष रूप से उपयुक्त बन जाती है। उन्नत निर्माण वातावरण में निर्बाध एकीकरण के लिए डिज़ाइन किया गया, MCS संदूषण के जोखिम को कम करने, प्रक्रिया की उपज में सुधार करने और पानी, रसायनों या सॉल्वेंट्स के बिना समग्र उत्पादन स्थिरता को बढ़ाने में मदद करता है।उच्च गुणवत्ता वाले सेमीकंडक्टर और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण और विश्वसनीय कस्टम निर्माताओं के लिए M&R नैनो प्रौद्योगिकी चुनें।
MCS मास्क क्लीनर सिस्टम (ड्राई प्रकार)
MCS एयर-नाइफ डस्ट रिमूवल सिस्टम एक औद्योगिक-ग्रेड ड्राई क्लीनिंग समाधान है जिसे M&R द्वारा विकसित किया गया है, जो अत्यधिक स्वच्छता और संदूषण नियंत्रण की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए है। उच्च गति वाले एयर-नाइफ एयरफ्लो का उपयोग करते हुए, यह प्रणाली पूरी तरह से गैर-संपर्क प्रक्रिया में नैनो और माइक्रो-स्तरीय कणों को प्रभावी ढंग से हटा देती है, जिससे यह सेमीकंडक्टर फोटोमास्क, वेफर्स और अन्य उच्च-मूल्य वाले सटीक घटकों के लिए विशेष रूप से उपयुक्त बन जाती है। उन्नत निर्माण वातावरण में निर्बाध एकीकरण के लिए डिज़ाइन किया गया, MCS संदूषण के जोखिम को कम करने, प्रक्रिया की उपज में सुधार करने और पानी, रसायनों या सॉल्वेंट्स के बिना समग्र उत्पादन स्थिरता को बढ़ाने में मदद करता है।
उपकरण विशेषताएँ
MCS प्रणाली एक अद्वितीय तीन-चरणीय भौतिक सफाई प्रक्रिया का उपयोग करती है, जिसमें इलेक्ट्रोस्टैटिक चार्ज न्यूट्रलाइजेशन, वायु-प्रसारित अल्ट्रासोनिक कंपन, और सटीक निम्न-दबाव M-आकार के एयर-नाइफ ब्लोइंग शामिल हैं। यह डिज़ाइन 0.5 से 5 माइक्रोन रेंज में कणों को प्रभावी ढंग से हटाने की अनुमति देता है, जिससे कणों की कमी की दर 99% तक प्राप्त होती है, जबकि यह सुनिश्चित करता है कि संवेदनशील पेलिकल और मास्क सतहें यांत्रिक तनाव या विरूपण से मुक्त रहें।
यह प्रणाली स्वचालित संचालन का समर्थन करती है जिसमें रोबोटिक फ्लिपिंग, बारकोड और RFID पहचान, और SEMI E121 संचार शामिल हैं, जो फैब स्वचालन और मास्क लॉजिस्टिक्स सिस्टम के साथ निर्बाध एकीकरण की अनुमति देती है। ये विशेषताएँ MCS को उन्नत लिथोग्राफी वातावरण के लिए एक आवश्यक उपकरण बनाती हैं, जिसमें EUV, ArF, और KrF प्रक्रियाएँ शामिल हैं, जहाँ स्वच्छता सीधे उत्पादन, मास्क जीवनकाल, और निर्माण विश्वसनीयता को प्रभावित करती है।
विशेषताएँ
- मुख्य इकाई संरचना: उच्च-शक्ति स्टील/एल्यूमिनियम मिश्र धातु फ्रेम
- एयर नाइफ: पहनने के लिए प्रतिरोधी धातु मिश्र धातु या उच्च-ग्रेड एल्यूमीनियम मिश्र धातु
- एयरफ्लो डक्ट और नोजल: उच्च-सटीक मशीनिंग की गई धातु
- नियंत्रक और पैनल: औद्योगिक-ग्रेड इलेक्ट्रॉनिक घटक और पैनल
- संक्रमण तंत्र: उच्च-विश्वसनीयता सर्वो या वायवीय ड्राइव
कॉन्फ़िगरेशन
- मुख्य मशीन: एयर नाइफ मॉड्यूल और ड्राइव एयर सर्किट शामिल हैं
- नियंत्रण प्रणाली: पीएलसी/टच पैनल, स्वचालित पैरामीटर सेटिंग
- एयर स्रोत इंटरफेस: संकुचित हवा की आपूर्ति और पाइपिंग
- सुरक्षा/संरक्षण उपकरण: आपातकालीन रोक, सुरक्षा ढाल, सेंसर
- समर्थन फ्रेम/आधार: उत्पादन लाइनों या ट्रांसफर उपकरणों के साथ एकीकृत किया जा सकता है
- डेटा निगरानी इंटरफेस: संचालन की स्थिति और धूल हटाने के आंकड़े प्रदर्शित करता है
विकल्प
- उच्च-सटीकता स्थिति प्लेटफ़ॉर्म (उत्पादन लाइन के साथ गतिशील रूप से एकीकृत)
- कण आकार परीक्षण उपकरण
- विभिन्न एयर नाइफ नोजल/सिलेंडर मॉड्यूल
- उत्पादन लाइन के लिए स्वचालित फीडिंग/अनलोडिंग इंटरफेस
- स्वच्छता निगरानी प्रणाली
- एकीकृत वैक्यूम धूल संग्रह या उत्सर्जन पाइपिंग
अनुप्रयोग
- सेमीकंडक्टर फोटोमास्क की सफाई और धूल हटाने (EUV, ArF, KrF ग्रेड फोटोमास्क)
- सटीक वेफर सतह की सफाई (MSP, वेफर एक्सपोजर)
- उच्च-स्वच्छता निर्माण प्रक्रियाएँ: जैसे ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रियाएँ, सटीक लेंस निर्माण
- ऑप्टिकल घटक प्रसंस्करण: जैसे फ्लैट पैनल डिस्प्ले, ऑप्टिकल कांच
- सटीक निर्माण वातावरण: कोई भी वातावरण जिसमें संपर्क रहित धूल हटाने की आवश्यकता होती है
डाउनलोड गर्म उत्पाद
MCS मास्क क्लीनर सिस्टम (ड्राई प्रकार)पेशेवर कस्टम सेमीकंडक्टर और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण
M&R नैनो प्रौद्योगिकी उच्च गुणवत्ता वाले MCS मास्क क्लीनर सिस्टम (ड्राई प्रकार) और अर्धचालक एवं ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण प्रदान करती है, जो उन्नत अर्धचालक, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक, और परीक्षण अनुप्रयोगों के लिए डिज़ाइन किए गए हैं।हमारी उत्पाद श्रृंखला में विस्तृत मास्क संरेखक, स्पिन कोटर्स और डेवलपर्स शामिल हैं, जो हमारे ताइवान के ताओयुआन संयंत्र में मजबूत स्वचालन क्षमताओं के साथ निर्मित हैं।
हम अपने इन-हाउस अनुसंधान एवं विकास और लघुकरण प्रौद्योगिकी के माध्यम से स्थिर गुणवत्ता और सटीक अनुकूलन प्रदान करने पर ध्यान केंद्रित करते हैं। यह सुनिश्चित करता है कि प्रत्येक प्रणाली सख्त प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा करती है जबकि व्यावहारिक स्थायित्व, कम लागत और अंतिम उपयोगकर्ताओं के लिए उच्च दक्षता बनाए रखती है।
वैश्विक खरीदारों के लिए, M&R नैनो प्रौद्योगिकी विश्वसनीय निर्माण समर्थन प्रदान करता है जो स्रोत प्रक्रिया को सरल बनाता है। हम ग्राहकों को उनके सेमीकंडक्टर और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरणों को उत्पादन में लाने में मदद करने के लिए प्रतिक्रियाशील संचार, कुशल स्वचालन एकीकरण और लगातार बिक्री के बाद रखरखाव प्रदान करते हैं।