Sistem Pembersih Topeng MCS (Jenis Kering) | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik
Sistem Pembuangan Debu Air-Knife MCS adalah penyelesaian pembersihan kering gred industri yang dibangunkan oleh M&R untuk aplikasi yang memerlukan kebersihan ultra-tinggi dan kawalan pencemaran. Dengan menggunakan aliran udara pisau udara berkelajuan tinggi, sistem ini secara efektif mengeluarkan partikel nano dan mikro dalam proses tanpa sentuhan sepenuhnya, menjadikannya sangat sesuai untuk fotomask semikonduktor, wafer, dan komponen ketepatan bernilai tinggi yang lain. Direka untuk integrasi yang lancar ke dalam persekitaran pembuatan yang maju, MCS membantu mengurangkan risiko pencemaran, meningkatkan hasil proses, dan meningkatkan kestabilan pengeluaran keseluruhan tanpa penggunaan air, bahan kimia, atau pelarut.Pilih M&R NANO TEKNOLOGI untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualiti tinggi dan pembuatan tersuai yang boleh dipercayai.
Sistem Pembersih Topeng MCS (Jenis Kering)
Sistem Pembuangan Debu Air-Knife MCS adalah penyelesaian pembersihan kering gred industri yang dibangunkan oleh M&R untuk aplikasi yang memerlukan kebersihan ultra-tinggi dan kawalan pencemaran. Dengan menggunakan aliran udara pisau udara berkelajuan tinggi, sistem ini secara efektif mengeluarkan partikel nano dan mikro dalam proses tanpa sentuhan sepenuhnya, menjadikannya sangat sesuai untuk fotomask semikonduktor, wafer, dan komponen ketepatan bernilai tinggi yang lain. Direka untuk integrasi yang lancar ke dalam persekitaran pembuatan yang maju, MCS membantu mengurangkan risiko pencemaran, meningkatkan hasil proses, dan meningkatkan kestabilan pengeluaran keseluruhan tanpa penggunaan air, bahan kimia, atau pelarut.
Ciri-ciri Peralatan
Sistem MCS menggunakan proses pembersihan fizikal tiga peringkat yang unik, termasuk penetralan cas elektrostatik, getaran ultrasonik yang dihantar melalui udara, dan tiupan pisau udara berbentuk M bertekanan rendah yang tepat. Reka bentuk ini membolehkan penghapusan partikel dalam julat 0.5 hingga 5 mikrometer dengan cekap, mencapai kadar pengurangan partikel sehingga 99% sambil memastikan bahawa pellicles dan permukaan topeng yang sensitif tetap bebas daripada tekanan mekanikal atau ubah bentuk.
Sistem ini menyokong pengendalian automatik dengan pembalikan robotik, pengenalan kod bar dan RFID, serta komunikasi SEMI E121, membolehkan integrasi yang lancar dengan automasi fab dan sistem logistik topeng. Ciri-ciri ini menjadikan MCS alat yang penting untuk persekitaran litografi yang maju, termasuk proses EUV, ArF, dan KrF, di mana kebersihan secara langsung mempengaruhi hasil, jangka hayat topeng, dan kebolehpercayaan pembuatan.
Spesifikasi
- Struktur unit utama: Rangka keluli/aloi aluminium berkekuatan tinggi
- Pisau udara: Aloi logam tahan pakai atau aloi aluminium gred tinggi
- Saluran aliran udara dan muncung: Logam yang diproses dengan ketepatan tinggi
- Pengawal dan panel: Komponen elektronik gred industri dan panel
- Mekanisme penghantaran: Servo atau pemacu pneumatik yang sangat boleh dipercayai
Konfigurasi
- Mesin utama: Termasuk modul pisau udara dan litar udara pemacu
- Sistem kawalan: PLC/panel sentuh, penetapan parameter automatik
- Antaramuka sumber udara: Bekalan udara termampat dan paip
- Peralatan keselamatan/perlindungan: Henti kecemasan, pelindung keselamatan, sensor
- Rangka sokongan/asas: Boleh digabungkan dengan barisan pengeluaran atau peralatan pemindahan
- Antaramuka pemantauan data: Memaparkan status operasi dan statistik penghapusan habuk
Pilihan
- Platform pemposisian berketepatan tinggi (terintegrasi secara dinamik dengan barisan pengeluaran)
- Peralatan pengujian saiz zarah
- Pelbagai muncung pisau udara/modul silinder
- Antaramuka pemakanan/pembuangan automatik untuk barisan pengeluaran
- Sistem pemantauan kebersihan
- Pengumpulan habuk vakum bersepadu atau paip pelepasan
Aplikasi
- Pembersihan dan penghapusan habuk photomask semikonduktor (photomask gred EUV, ArF, KrF)
- Pembersihan permukaan wafer yang tepat (MSP, pendedahan wafer)
- Proses pembuatan kebersihan tinggi: seperti proses optoelektronik, pembuatan lensa tepat
- Pemprosesan komponen optik: seperti paparan panel rata, kaca optik
- Persekitaran pembuatan tepat: mana-mana persekitaran yang memerlukan penghapusan habuk tanpa sentuhan
Download Produk Panas
Sistem Pembersih Topeng MCS (Jenis Kering)Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik Kustom Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY menyediakan Sistem Pembersih Topeng MCS (Jenis Kering) berkualiti tinggi dan peralatan proses semikonduktor & optoelektronik yang direka untuk aplikasi semikonduktor, optoelektronik, dan pengujian yang maju.Barisan produk kami termasuk Penjajar Masker terperinci, Pelapis Putar, dan Pembangun yang dihasilkan di kemudahan kami di Taoyuan, Taiwan dengan keupayaan automasi yang kuat.
Kami memberi tumpuan kepada penyampaian kualiti yang stabil dan penyesuaian yang tepat melalui R&D dalaman dan teknologi miniaturisasi kami. Ini memastikan bahawa setiap sistem memenuhi keperluan proses yang ketat sambil mengekalkan ketahanan praktikal, kos rendah, dan kecekapan tinggi untuk pengguna akhir.
Untuk pembeli global, M&R NANO TECHNOLOGY menawarkan sokongan pembuatan yang boleh dipercayai yang memudahkan proses pengambilan sumber. Kami menyediakan komunikasi yang responsif, integrasi automasi yang cekap, dan penyelenggaraan selepas jualan yang konsisten untuk membantu pelanggan membawa peralatan proses semikonduktor & optoelektronik mereka ke dalam pengeluaran dengan jayanya.