Alignateur de masque manuel | M&R ÉQUIPEMENT DE PROCESSUS SEMI-CONDUCTEUR & OPTOÉLECTRONIQUE NANO TECHNOLOGY
Les aligneurs manuels de M&R sont adaptés aux plaquettes de 2" à 6", avec un déplacement XY allant jusqu'à 200 mm. Certains modèles sont équipés de moteurs électriques, et la résolution minimale de réglage fin peut atteindre 40 nm. Le modèle standard offre une précision manuelle de niveau 1µm, équilibrant flexibilité et rentabilité. L'alignement est réalisé par identification visuelle humaine, avec une précision d'alignement d'environ 1,0~2,0µm, adapté aux applications de R&D et expérimentales. Certains modèles offrent une exposition sans contact, évitant d'endommager la surface de la plaquette et améliorant la préservation des échantillons. La conception du système est simple, la maintenance est facile et il peut être équipé d'un module de contrôle IPC pour fournir une gestion de données de base et une interface d'opération.
Ce modèle est largement utilisé dans les universités, les institutions de recherche et les tests de processus en phase initiale dans les domaines de l'optoélectronique, des MEMS et d'autres domaines, aidant les utilisateurs à compléter le développement et la vérification des processus d'exposition de la manière la plus économique.Choisissez M&R NANO TECHNOLOGY pour des équipements de processus semi-conducteurs et optoélectroniques de haute qualité et une fabrication personnalisée fiable.
Alignateur de masque manuel
Les aligneurs manuels de M&R sont adaptés aux plaquettes de 2" à 6", avec un déplacement XY allant jusqu'à 200 mm. Certains modèles sont équipés de moteurs électriques, et la résolution minimale de réglage fin peut atteindre 40 nm. Le modèle standard offre une précision manuelle de niveau 1µm, équilibrant flexibilité et rentabilité. L'alignement est réalisé par identification visuelle humaine, avec une précision d'alignement d'environ 1,0~2,0µm, adapté aux applications de R&D et expérimentales. Certains modèles offrent une exposition sans contact, évitant d'endommager la surface de la plaquette et améliorant la préservation des échantillons. La conception du système est simple, la maintenance est facile et il peut être équipé d'un module de contrôle IPC pour fournir une gestion de données de base et une interface d'opération.
Ce modèle est largement utilisé dans les universités, les institutions de recherche et les tests de processus en phase initiale dans les domaines de l'optoélectronique, des MEMS et d'autres domaines, aidant les utilisateurs à compléter le développement et la vérification des processus d'exposition de la manière la plus économique.
Avantages de l'alignement de masque manuel de M&R
Le masque aligneur manuel de M&R est un dispositif d'exposition haute performance conçu pour la R&D en phase précoce, l'utilisation en laboratoire et le prototypage à petite échelle. Sa plus grande caractéristique est son design compact, de bureau, d'entrée de gamme, offrant la solution de lithographie la plus flexible et économique. La petite taille de l'appareil et sa facilité d'installation permettent d'économiser de l'espace expérimental et réduisent considérablement les coûts d'achat, ce qui le rend particulièrement adapté aux équipes avec des budgets limités nécessitant plusieurs postes de travail distribués.
L'opération manuelle est un avantage clé de cet appareil. La méthode d'alignement est intuitive et facile à apprendre, permettant aux étudiants, chercheurs et ingénieurs de commencer rapidement et de valider immédiatement le processus. Comme il n'y a pas de processus automatisés complexes, les utilisateurs peuvent ajuster librement divers paramètres, facilitant l'expérimentation, la correction d'erreurs et l'exploration des processus.
Pour la protection des échantillons, certains modèles utilisent un design sans contact, empêchant les dommages aux plaquettes. Cela est particulièrement bénéfique pour les plaquettes fines, les structures MEMS ou les plaquettes déformées, améliorant considérablement les taux de réussite expérimentale et la fiabilité.
Il convient de mentionner que l'aligneur de masque manuel de M&R offre une grande flexibilité de mise à niveau. Les utilisateurs peuvent choisir d'équiper la plateforme motorisée pour améliorer la précision de l'axe XY à 40 nm, passant d'une vérification manuelle pour débutants à une vérification avancée sans remplacer l'ensemble du système, offrant une évolutivité extrêmement élevée.
Le masque aligneur manuel de M&R offre aux clients un point de départ flexible et efficace pour les processus de lithographie en raison de son faible coût, de sa facilité d'utilisation, de sa haute stabilité et de sa scalabilité, ce qui en fait un choix idéal pour les établissements d'enseignement, les centres de R&D et les startups.
Spécifications
- Taille de wafer applicable : 2”～6”
- Déplacement XY : 200mm
- Précision de l'axe XY : 40nm motorisé / 1µm manuel (selon le modèle)
- Déplacement de l'axe Z : Aucun ou mécanisme d'ajustement simple
- Précision d'alignement : 1.0~2.0µm (manuel)
- Résolution d'exposition : 0.8µm～1.0µm
- Méthode d'alignement : Identification visuelle humaine
- Mode d'exposition : Non-contact / Contact (selon le modèle)
- Système de contrôle : IPC (certains modèles)
Configuration
- Conception légère de bureau
- Module de contrôle d'exposition de base
- Interface IPC (pour certains modèles)
Possibilités
- Montage de photomasques avec ventouse à vide simple
- Modules optiques personnalisés
- Système d'alignement de base assisté par image
Applications
- Institutions de recherche et laboratoires universitaires
- Développement initial de processus
- R&D en optoélectronique et MEMS
- Production pilote en petites séries
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Alignateur de masque manuelÉquipement de processus semi-conducteurs et optoélectroniques sur mesure
M&R NANO TECHNOLOGY fournit des équipements de processus de haute qualité en Alignateur de masque manuel et en semi-conducteurs & optoélectronique, conçus pour des applications avancées en semi-conducteurs, optoélectronique et tests.Notre gamme de produits comprend des aligneurs de masques détaillés, des revêtements par rotation et des développeurs fabriqués dans notre usine de Taoyuan, à Taïwan, dotée de fortes capacités d'automatisation.
Nous nous concentrons sur la livraison d'une qualité stable et d'une personnalisation précise grâce à notre R&D interne et à notre technologie de miniaturisation. Cela garantit que chaque système répond à des exigences de processus strictes tout en maintenant une durabilité pratique, un faible coût et une haute efficacité pour les utilisateurs finaux.
Pour les acheteurs mondiaux, M&R NANO TECHNOLOGY offre un support de fabrication fiable qui simplifie le processus d'approvisionnement. Nous fournissons une communication réactive, une intégration d'automatisation efficace et un entretien après-vente constant pour aider les clients à mettre en production avec succès leur équipement de traitement des semi-conducteurs et optoélectroniques.