उपकरण की विशेषताओं में एक पूरी तरह से स्वचालित संरेखण प्लेटफ़ॉर्म, निरंतर बैच प्रसंस्करण, प्रोग्राम करने योग्य एक्सपोज़र पैरामीटर, बंद-लूप प्रकाश तीव्रता स्थिरता नियंत्रण, और एक साफ, सील किया हुआ संचालन वातावरण शामिल है, जो इसे लंबे समय तक संचालन के दौरान भी उच्च स्थिरता बनाए रखने में सक्षम बनाता है। अर्ध-स्वचालित या मैनुअल एक्सपोज़र की तुलना में, स्वचालित उपकरण पूरी तरह से मानव त्रुटि को समाप्त कर देता है, जो बड़े पैमाने पर उत्पादन-उन्मुख प्रक्रियाओं के लिए एक महत्वपूर्ण उन्नयन का प्रतिनिधित्व करता है।

M&R के स्वचालित मास्क एल्गोरिदम M&R की नवीनतम पीढ़ी की फर्श पर खड़ी एक्सपोजर मशीन है, जिसे मध्यम से बड़े आकार की वेफर प्रक्रियाओं के लिए विशेष रूप से डिज़ाइन किया गया है। 2” से 12” वेफर्स का समर्थन करते हुए, इसका मुख्य मूल्य "उच्च-परिशुद्धता नियंत्रण × उच्च स्वचालन × प्रक्रिया स्थिरता" में निहित है। मध्यम से बड़े आकार के वेफर्स के बड़े पैमाने पर उत्पादन का समर्थन करते हुए, यह उन्नत लिथोग्राफी प्रक्रियाओं के लिए एक महत्वपूर्ण उपकरण है, जिसे उच्च उपज, उच्च स्थिरता और उच्च दक्षता का पीछा करने वाली बड़े पैमाने पर उत्पादन प्रक्रियाओं के लिए विशेष रूप से बनाया गया है।
 
सटीकता के मामले में, उपकरण एक पूरी तरह से इलेक्ट्रिक, उच्च-सटीक XY/Z/थीटा नियंत्रण प्लेटफ़ॉर्म अपनाता है। XY अक्ष की सटीकता 0.1µm तक पहुँचती है, Z-अक्ष का विस्थापन 5mm से अधिक होता है, और एक्सपोजर रिज़ॉल्यूशन 0.8µm तक पहुँचता है। यह उन्नत दृष्टि कंप्यूटिंग प्रौद्योगिकी को एकीकृत करता है, 0.5–1.0µm की संरेखण सटीकता प्राप्त करता है, जो उच्च-सटीकता पैटर्न ट्रांसफर की आवश्यकताओं को पूरी तरह से पूरा करता है। M&R के स्वचालित मास्क संरेखक में एक उच्च-स्थिरता वाले स्टील फ्रेम संरचना का उपयोग किया गया है, जो एक कंपन डंपिंग प्रणाली के साथ मिलकर पर्यावरणीय हस्तक्षेप को प्रभावी ढंग से कम करता है और प्रक्रिया की स्थिरता सुनिश्चित करता है।
 
दीर्घकालिक बड़े पैमाने पर उत्पादन के दौरान स्थिरता सुनिश्चित करने के लिए, स्वचालित मास्क संरेखक एक उच्च-स्थिरता स्टील फ्रेम का उपयोग करता है जिसमें <2Hz कंपन डंपिंग प्रणाली होती है, जो बाहरी कंपन हस्तक्षेप को महत्वपूर्ण रूप से कम करती है। इसमें WEC वेज त्रुटि मुआवजा समतल तकनीक शामिल है, जो ±1.0µm की समतलता सटीकता प्राप्त करती है, प्रभावी रूप से वेफर झुकाव को सही करती है और एक्सपोजर समानता में सुधार करती है। मास्क फिक्सिंग एक उच्च-लॉकिंग डोवेटेल डिज़ाइन का उपयोग करती है, जो प्रक्रिया की स्थिरता को और बढ़ाती है।
 
कुशलता के मामले में, उपकरण 2-इंच से 12-इंच के वेफर्स का समर्थन करता है और इसे वैकल्पिक रूप से एक स्वचालित मास्क बदलने की प्रणाली और एक वेफर रोबोटिक आर्म से लैस किया जा सकता है। स्वचालित हैंडलिंग प्रक्रियाएँ उत्पादन क्षमता बढ़ाती हैं और मानव जोखिम को कम करती हैं, जिससे यह बड़े पैमाने पर उत्पादन प्रक्रिया की आवश्यकताओं के लिए आदर्श बन जाती है।
 
इसके अलावा, सिस्टम कई एक्सपोजर मोड का समर्थन करता है, जिसमें वैक्यूम संपर्क, हार्ड संपर्क, सॉफ्ट संपर्क, और गैप एक्सपोजर शामिल हैं, और यह एक PLC + IPC + HMI इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण आर्किटेक्चर से लैस है, जिससे उपयोगकर्ता इंटरफ़ेस सहज और डेटा प्रबंधन को एकीकृत करना आसान हो जाता है।
 
M&R के स्वचालित मास्क संरेखक, जिसकी मुख्य विशेषताएँ उच्च सटीकता, उच्च स्थिरता, और उच्च दक्षता हैं, विभिन्न लिथोग्राफी मास उत्पादन प्रक्रियाओं के लिए एक अत्यधिक प्रतिस्पर्धी स्वचालन उपकरण विकल्प है।

विशेषताएँ

• लागू होने वाला वेफर आकार: 2”～12”
• XY स्ट्रोक: 5 मिमी
• XY अक्ष सटीकता: मोटर चालित 0.1µm
• Z अक्ष स्ट्रोक: >5.0 मिमी
• Z अक्ष सटीकता: मोटर चालित 1.0µm
• थीटा अक्ष: ±3° सूक्ष्म समायोजन का समर्थन करता है
• स्तरीकरण संरचना: WEC वेज त्रुटि मुआवजा
• स्तरीकरण सटीकता: ±1.0µm
• मास्क फिक्सिंग: डोवेटेल डिज़ाइन, अत्यधिक तंग फिट
• मास्क प्रतिस्थापन: सेमी-ऑटोमैटिक / मैनुअल
• एक्सपोजर रिज़ॉल्यूशन: 0.8µm
• संरेखण सटीकता: 0.5~1.0µm (मोटराइज्ड)
• संरेखण विधि: दृष्टि-आधारित संरेखण प्रणाली
• एक्सपोजर मोड: वैक्यूम संपर्क / हार्ड संपर्क / सॉफ्ट संपर्क / गैप एक्सपोजर
• नियंत्रण प्रणाली: PLC + 7" HMI + IPC

कॉन्फ़िगरेशन

• WEC स्तर प्रणाली
• उच्च-स्थिरता कंपन-निरोधक स्टील फ्रेम
• PLC + HMI + IPC नियंत्रण

विकल्प

• स्वचालित फोटोमास्क प्रतिस्थापन प्रणाली
• वेफर रोबोटिक आर्म
• कस्टम ऑप्टिकल मॉड्यूल

अनुप्रयोग

• सेमीकंडक्टर फोटोलीथोग्राफी प्रक्रिया
• ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरण (एलईडी, माइक्रो-एलईडी)
• MEMS प्रक्रिया
• ऑप्टिकल और लेजर उपकरण