Las características de desarrollo semiautomático de M&R cuentan con un motor servo de CA y un control de velocidad de alta precisión, combinado con un sistema de alimentación automática y boquilla. Puede realizar el desarrollo de fotoresistencias, limpieza y secado con nitrógeno, y gestiona múltiples recetas a través de un PLC y un panel táctil, asegurando estabilidad y repetibilidad.
El desarrollador semiautomático de M&R combina automatización y un diseño fácil de usar, presentando una arquitectura de comunicación SEMI, un sistema de monitoreo en tiempo real y mecanismos de protección de seguridad, equilibrando flexibilidad y estabilidad en la operación. Su sistema de bandeja motorizado proporciona una rotación de alta precisión y un bajo error de planitud, y combinado con el módulo de alimentación y pulverización automática, mejora efectivamente la consistencia del proceso. En comparación con los sistemas totalmente automáticos, los modelos semiautomáticos reducen costos mientras mantienen alta eficiencia y fiabilidad, lo que los hace adecuados como una solución equilibrada entre la producción en masa y la I+D.
 
El desarrollador semiautomático de M&R controla automáticamente el tiempo de desarrollo, la tasa de flujo de líquido y el método de agitación para garantizar que cada oblea reciba las mismas condiciones de procesamiento, evitando el sobredesarrollo, el subdesarrollo y las variaciones en el ancho de línea causadas por la operación manual. Los procesos automatizados reemplazan el temporizado y la agitación manual, reduciendo efectivamente la variabilidad operativa, haciendo que los resultados del proceso sean más predecibles y facilitando el establecimiento de procesos de desarrollo estandarizados. Retener la carga manual de película y el cambio de material, junto con el control de desarrollo programado, permite al personal de I+D ajustar rápidamente las condiciones mientras mantiene resultados estables, logrando un equilibrio ideal entre I+D y producción a pequeña escala. La interfaz de usuario clara y los procesos simplificados evitan la agitación o el monitoreo manual prolongado, mejorando la eficiencia y la seguridad en el trabajo. Es más rentable que los sistemas totalmente automatizados, tiene una estructura resistente a la corrosión, es fácil de mantener, se puede utilizar de manera estable durante mucho tiempo y tiene bajos costos de mantenimiento.

Especificaciones

• Estructura: carcasa de SUS, WPP
• Especificación del motor: Motor servo AC
• Velocidad del motor: 10-3000 RPM
• Precisión de velocidad: velocidad constante +/-1%
• Mecanismo de boquilla: Alimentador automático y 2 juegos de boquillas para desarrollador, 2 juegos de alimentador automático y 2 juegos de boquillas para DIW y N2
• Tamaño de oblea aplicable: 2”-8”
• Mecanismo de almohadilla: Resistente a cerámica/ácidos y álcalis, bisel de 45 grados para prevenir la penetración de PR
• Planitud de la almohadilla: <10um
• Método de operación: Alimentación automática
• Sistema de control: PLC + Panel táctil, 30 módulos de receta configurables
• Dispositivos de seguridad: Protección contra fugas de vacío de la almohadilla, detección de vacío, protección de interruptor de circuito de fuga

Configuración

• Motor rotativo del husillo
• Mecanismo de soporte
• Sistema de control
• Dispositivos de seguridad
• Sistema de cojinetes líquidos/neumáticos

Opciones

• Arquitectura de Comunicación de Equipos SEMI
• Arquitectura de brazo automático de recogida y colocación
• Sistema de Monitoreo en Tiempo Real

Aplicaciones

• Adecuado para procesos de desarrollo de fotoresistencias en obleas o sustratos de 2 a 8 pulgadas
• Fabricación de semiconductores
• Paneles optoelectrónicos
• Laboratorios de MEMS y litografía
• Especialmente adecuado para producción piloto y necesidades de I+D a pequeña y mediana escala