Le développeur semi-automatique de M&R est équipé d'un moteur servo AC et d'un contrôle de vitesse haute précision, combiné à un système d'alimentation automatique et de buses. Il peut effectuer le développement de photoresist, le nettoyage et le séchage à l'azote, et gère plusieurs recettes via un PLC et un panneau tactile, garantissant stabilité et répétabilité.
Le développeur semi-automatique de M&R combine automatisation et design convivial, avec une architecture de communication SEMI, un système de surveillance en temps réel et des mécanismes de protection de sécurité, équilibrant flexibilité et stabilité en fonctionnement. Son système de plateau motorisé offre une rotation de haute précision et une faible erreur de planéité, et combiné au module d'alimentation et de pulvérisation automatique, il améliore efficacement la cohérence du processus. Comparé aux systèmes entièrement automatiques, les modèles semi-automatiques réduisent les coûts tout en maintenant une haute efficacité et fiabilité, ce qui en fait une solution équilibrée entre la production de masse et la R&D.
 
Le développeur semi-automatique de M&R contrôle automatiquement le temps de développement, le débit de liquide et la méthode d'agitation pour garantir que chaque plaquette reçoit les mêmes conditions de traitement, évitant ainsi le sur-développement, le sous-développement et les variations de largeur de ligne causées par une opération manuelle. Les processus automatisés remplacent le chronométrage et le mélange manuels, réduisant ainsi efficacement la variabilité opérationnelle, rendant les résultats des processus plus prévisibles et facilitant l'établissement de processus de développement standardisés. Le maintien du chargement manuel des films et du changement de matériel, associé à un contrôle de développement programmé, permet au personnel de R&D d'ajuster rapidement les conditions tout en maintenant des résultats stables, atteignant un équilibre idéal entre la R&D et la production à petite échelle. L'interface utilisateur claire et les processus simplifiés évitent un brassage ou un suivi manuel prolongé, améliorant ainsi l'efficacité et la sécurité au travail. C'est plus rentable que les systèmes entièrement automatisés, a une structure résistante à la corrosion, est facile à entretenir, peut être utilisé de manière stable pendant longtemps et a des coûts d'entretien faibles.

Spécifications

• Cadre : boîtier SUS, WPP
• Spécification du moteur : moteur servo AC
• Vitesse du moteur : 10-3000 RPM
• Précision de la vitesse : vitesse constante +/-1%
• Mécanisme de buse : alimentation automatique et 2 ensembles de buses pour le développeur, alimentation automatique à 2 ensembles et 2 ensembles de buses pour DIW & N2
• Taille de wafer applicable : 2”-8”
• Mécanisme de tampon : résistant aux acides et aux alcalins en céramique, biseau de 45 degrés pour éviter la pénétration de PR
• Planéité du pad : <10um
• Méthode de fonctionnement : alimentation automatique
• Système de contrôle : PLC + panneau tactile, 30 modules de recette configurables
• Dispositifs de sécurité : protection contre les fuites de vide du tampon, détection de vide, protection par disjoncteur de fuite

Configuration

• Moteur rotatif de broche
• Mécanisme de roulement
• Système de contrôle
• Dispositifs de sécurité
• Système de roulement liquide/pneumatique

Possibilités

• Architecture de communication des équipements SEMI
• Architecture de bras automatique de prise et de placement
• Système de surveillance en temps réel

Applications

• Convient aux processus de développement de photoresist sur des plaquettes ou substrats de 2 pouces à 8 pouces
• Fabrication de semi-conducteurs
• Panneaux optoélectroniques
• Laboratoires MEMS et lithographie
• Particulièrement adapté aux besoins de production pilote et de R&D à petite et moyenne échelle