科毅半自動顯影機搭載 AC 伺服馬達與高精度轉速控制，結合自動供料與噴嘴系統，可進行光阻顯影、清洗及氮氣乾燥，並透過 PLC＋觸控面板管理多組 Recipe，確保穩定與重複性。

科毅半自動顯影機結合自動化與人性化設計，具備 SEMI 通訊架構、即時監控系統與安全保護機制，操作上兼顧靈活性與穩定性。其馬達驅動承盤系統提供高精度旋轉與低平坦度誤差，搭配自動供料與噴液模組，能有效提升製程一致性。相比全自動系統，半自動機型在降低成本的同時，仍保有高效率與可靠性，適合作為量產與研發間的平衡方案。

科毅半自動顯影機透過自動控制顯影時間、液流速度與攪拌方式，使每片晶圓獲得相同的處理條件，避免手動操作造成的過顯、欠顯與線寬變異。自動化流程取代人工計時與攪拌，能有效減少操作差異，使製程結果更可預測，有助於建立標準化的顯影流程。保留人工放片、材料切換等操作，加上程式化顯影控制，讓研發人員既能快速調整條件，也能維持穩定成果，是研發與小量產的理想平衡。操作介面清楚、流程簡化，能避免人工長時間攪拌或監控，提高工作效率與安全性。比全自動系統成本更低，結構耐腐蝕、保養容易，能長期穩定使用且維修成本低。

產品規格

• 骨架: SUS 外殼WPP
• 馬達規格: AC Servo Motor
• 馬達轉速: 10-3000 RPM
• 轉速精度: 等速+/-1%
• 噴嘴機構: 自動供料及噴嘴*2set for 顯影液,
• 自動供料及噴嘴*2set for DIW & N2
• 適用晶圓尺寸: 2”-8”
• 承盤機構: 陶瓷/耐酸鹼功能, 45度導角防止PR滲透
• 承盤平坦度: <10um
• 操作方式: 自動給料
• 控制系統: PLC+Touch Panel, 30組可設定Recipe模組
• 安全裝置: 承盤真空滲液保護, 真空檢知, 漏電斷路保護

產品配備

• 主軸旋轉馬達
• 承盤機構
• 控制系統
• 安全裝置
• 液體/空壓承載系統

產品選配

• SEMI 設備通訊架構
• 自動取放手臂架構
• 即時監控系統

應用產業

• 適用於 2 吋至 8 吋晶圓或基板之光阻顯影製程
• 半導體製造
• 光電面板
• MEMS 與微影實驗室等場域
• 特別適合中小量試產與研發需求