장비의 특징으로는 고균일 제트 개발 기술, 자동 화학 보상 시스템, 폐쇄 루프 시간 및 유량 제어, 밀폐된 클린 챔버, 화학 저항 구조, 그리고 여러 웨이퍼 크기를 지원하는 모듈형 디자인이 포함됩니다.

M&R의 완전 자동 개발자는 높은 안정성, 강력한 호환성 및 포괄적인 맞춤화 기능으로 유명하여 대량 생산 및 고일관성 R&D 환경에서 특히 경쟁력 있는 장비입니다. 그것의 가장 큰 이점은 웨이퍼 공급, 현상, 세척, 건조에서 웨이퍼 출구에 이르기까지 완전 자동화된 프로세스를 통해 각 웨이퍼가 동일한 조건에서 처리되도록 보장하여 프로세스 일관성과 수율을 크게 향상시킨다는 것입니다. 엄격한 선폭 제어와 낮은 결함률을 요구하는 고객을 위해, 이는 공정 보정 시간을 효과적으로 단축하고 인건비를 줄입니다.
 
M&R는 폭넓은 포토레지스트 호환성을 제공하여 고객의 공정 특성에 맞게 제트 각도, 현상 동역학 및 유량 매개변수를 조정할 수 있습니다. 이는 국내외 많은 장비와 비교할 때 독보적인 수준의 맞춤화를 가능하게 합니다.
 
M&R의 완전 자동 개발자의 장점에는 신속한 구현, 맞춤형 기술 지원, 안정적인 수리 부품 공급, 더 유연한 비용, 그리고 포토레지스트 통합에 대한 성숙한 경험이 포함됩니다. 완전 자동화된 개발 기계는 불안정한 수동 개발, 고르지 않은 액체 흐름, 과도한 선폭 오류 및 프로세스 복제의 어려움과 같은 문제를 효과적으로 해결합니다. 대량 생산 공장, MEMS 제조, 광전자 부품 및 센서 산업을 위해 성능, 비용 및 신뢰성을 결합한 최상의 선택입니다.

사양

• 프레임: SUS 하우징, WPP
• 모터 사양: AC 서보 모터
• 모터 속도: 10-6000 RPM, 저속 패들 포함
• 속도 정확도: 일정 속도 +/-1%
• 노즐 메커니즘: 액체 분사 노즐 3세트, 팔 장착 분사 노즐 모듈
• 적용 가능한 웨이퍼 크기: 2”-8”
• 패드 메커니즘: 세라믹/산 및 알칼리 저항, PR 침투 방지를 위한 45도 챔퍼
• 패드 평탄도: <10um
• 로봇 팔 구성: 이중 팔 컨베이어 모듈
• 작동 방법: 자동 팔 공급
• 제어 시스템: X-Y 축 이동 팔, PLC + 터치 패널, 산업 제어 모듈 (IPC + IO), 100개 구성 가능한 레시피 모듈
• 안전 장치: EMO 비상 정지/버저, 자동 작동 안전 보호, 패드 진공 누출 보호, 진공 감지

구성

• 스핀들 회전 모터
• 플레이트 베어링 메커니즘
• 제어 시스템
• 안전 장치
• 액체/공압 베어링 시스템
• 로봇 팔
• 웨이퍼 위치 지정 아키텍처

옵션

• SEMI 장비 통신 아키텍처
• 실시간 모니터링 시스템

응용 프로그램

• 2인치에서 8인치 웨이퍼 또는 기판의 대량 생산 환경에 적합합니다.
• 반도체 제조, 광전자, MEMS 및 정밀 리소그래피 공정에서 널리 사용됩니다.
• 대량 생산 및 생산 라인에서 품질 관리를 위해 특히 중요합니다.