คุณสมบัติของอุปกรณ์รวมถึงเทคโนโลยีการพัฒนาจากเจ็ทที่มีความสม่ำเสมอสูง ระบบชดเชยสารเคมีอัตโนมัติ การควบคุมเวลาและการไหลแบบปิดวงจร ห้องสะอาดที่ปิดสนิท โครงสร้างที่ทนต่อสารเคมี และการออกแบบโมดูลาร์ที่รองรับขนาดเวเฟอร์หลายขนาด.

M&R เครื่องพัฒนาที่ทำงานอัตโนมัติเต็มรูปแบบมีชื่อเสียงในด้านความเสถียรสูง ความเข้ากันได้ที่แข็งแกร่ง และความสามารถในการปรับแต่งที่ครอบคลุม ทำให้เป็นอุปกรณ์ที่มีการแข่งขันสูงโดยเฉพาะในสภาพแวดล้อมการผลิตจำนวนมากและการวิจัยและพัฒนาที่มีความสอดคล้องสูง. ประโยชน์ที่ยิ่งใหญ่ที่สุดของมันคือการรับประกันว่าชิ้นเวเฟอร์แต่ละชิ้นจะถูกประมวลผลภายใต้สภาวะที่เหมือนกันผ่านกระบวนการอัตโนมัติเต็มรูปแบบตั้งแต่การป้อนเวเฟอร์ การพัฒนา การล้าง การอบแห้งจนถึงการออกเวเฟอร์ ซึ่งช่วยปรับปรุงความสอดคล้องของกระบวนการและผลผลิตอย่างมีนัยสำคัญ. สำหรับลูกค้าที่ต้องการควบคุมความกว้างของเส้นที่เข้มงวดและอัตราข้อบกพร่องต่ำ สิ่งนี้จะช่วยลดเวลาการปรับเทียบกระบวนการและลดต้นทุนแรงงานได้อย่างมีประสิทธิภาพ.
 
M&R มีความเข้ากันได้กับฟิล์มโฟโตเรซิสที่กว้างขวาง ช่วยให้สามารถปรับมุมการพ่น พลศาสตร์การพัฒนา และพารามิเตอร์อัตราการไหลให้เหมาะสมกับลักษณะกระบวนการของลูกค้า ซึ่งเป็นระดับของการปรับแต่งที่ไม่มีใครเทียบได้จากอุปกรณ์ในประเทศและต่างประเทศหลายแห่ง.
 
ข้อดีของ M&R's Fully Automatic Developer รวมถึงการดำเนินการที่รวดเร็ว, การสนับสนุนทางเทคนิคที่ปรับแต่งได้, การจัดหาชิ้นส่วนซ่อมที่มีเสถียรภาพ, ค่าใช้จ่ายที่ยืดหยุ่นมากขึ้น, และประสบการณ์ที่สุกงอมในการรวมฟิล์มโฟโต้เรซิส. เครื่องพัฒนาที่ทำงานอัตโนมัติเต็มรูปแบบของมันสามารถแก้ปัญหาได้อย่างมีประสิทธิภาพ เช่น การพัฒนาด้วยมือที่ไม่เสถียร การไหลของของเหลวที่ไม่สม่ำเสมอ ข้อผิดพลาดของความกว้างของเส้นที่มากเกินไป และความยากลำบากในการทำซ้ำกระบวนการ. สำหรับโรงงานผลิตจำนวนมาก การผลิต MEMS และอุตสาหกรรมส่วนประกอบออปโตอิเล็กทรอนิกส์และเซ็นเซอร์ นี่คือทางเลือกที่ดีที่สุดที่รวมประสิทธิภาพ ค่าใช้จ่าย และความน่าเชื่อถือไว้ด้วยกัน.

ข้อมูลจำเพาะ

• กรอบ: ตัวเรือน SUS, WPP
• ข้อมูลจำเพาะของมอเตอร์: มอเตอร์เซอร์โว AC
• ความเร็วของมอเตอร์: 10-6000 RPM, พร้อมใบพัดความเร็วต่ำ
• ความแม่นยำของความเร็ว: ความเร็วคงที่ +/-1%
• กลไกหัวฉีด: หัวฉีดพ่นของเหลว 3 ชุด, โมดูลหัวฉีดพ่นบนแขน
• ขนาดเวเฟอร์ที่ใช้ได้: 2”-8”
• กลไกแพด: ทนกรดและด่างเซรามิก, มุมเฉียง 45 องศาเพื่อป้องกันการซึมผ่านของ PR
• ความเรียบของแพด: <10um
• การกำหนดค่าหุ่นยนต์: โมดูลสายพานคู่
• วิธีการทำงาน: การให้อาหารแขนอัตโนมัติ
• ระบบควบคุม: แขนเคลื่อนที่แกน X-Y, PLC + แผงสัมผัส, โมดูลควบคุมอุตสาหกรรม (IPC + IO), 100 โมดูลสูตรที่กำหนดค่าได้
• อุปกรณ์ความปลอดภัย: EMO หยุดฉุกเฉิน/สัญญาณเตือน, การป้องกันความปลอดภัยในการทำงานอัตโนมัติ, การป้องกันการรั่วไหลของสูญญากาศแพด, การตรวจจับสูญญากาศ

การกำหนดค่า

• มอเตอร์หมุนแกน
• กลไกการรองรับแผ่น
• ระบบควบคุม
• อุปกรณ์ความปลอดภัย
• ระบบตลับลูกปืนของเหลว/นิวแมติก
• แขนหุ่นยนต์
• สถาปัตยกรรมการจัดตำแหน่งเวเฟอร์

ตัวเลือก

• สถาปัตยกรรมการสื่อสารอุปกรณ์ SEMI
• ระบบการตรวจสอบแบบเรียลไทม์

แอปพลิเคชัน

• เหมาะสำหรับสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีปริมาณสูงของเวเฟอร์หรือวัสดุรองขนาด 2 นิ้วถึง 8 นิ้ว.
• ใช้กันอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์, ออปโตอิเล็กทรอนิกส์, MEMS, และกระบวนการลิธิโอกราฟีที่แม่นยำ.
• โดยเฉพาะอย่างยิ่งสำคัญสำหรับการผลิตจำนวนมากและการควบคุมคุณภาพในสายการผลิต.