Kasama sa mga tampok ng kagamitan ang mataas na pagkakapare-pareho ng teknolohiya sa pagbuo ng jet, isang awtomatikong sistema ng kemikal na kompensasyon, saradong kontrol ng oras at daloy, isang selyadong malinis na silid, isang estruktura na lumalaban sa kemikal, at disenyo na modular na sumusuporta sa maraming sukat ng wafer.

Ang Fully Automatic Developer ng M&R ay kilala sa mataas na katatagan nito, malakas na kakayahang makipag-ugnayan, at komprehensibong kakayahan sa pag-customize, na ginagawang isang partikular na mapagkumpitensyang kagamitan sa mass production at mataas na consistency na mga kapaligiran ng R&D. Ang pinakamalaking benepisyo nito ay nakasalalay sa pagtitiyak na ang bawat wafer ay pinoproseso sa ilalim ng magkaparehong kondisyon sa pamamagitan ng isang ganap na awtomatikong proseso mula sa pagpapakain ng wafer, pagbuo, paghuhugas, pagpapatuyo hanggang sa paglabas ng wafer, na makabuluhang nagpapabuti sa pagkakapare-pareho ng proseso Para sa mga customer na nangangailangan ng mahigpit na kontrol sa lapad ng linya at mababang rate ng depekto, epektibo nitong pinapaikli ang oras ng pagkakalibrate ng proseso at binabawasan ang mga gastos sa paggawa.
 
M&R ay nag-aalok ng malawak na pagkakatugma ng photoresist, na nagpapahintulot sa mga pagsasaayos sa anggulo ng jet, mga dinamikong pagbuo, at mga parameter ng daloy upang umangkop sa mga katangian ng proseso ng customer—isang antas ng pagpapasadya na walang kapantay ng marami sa mga lokal at internasyonal na kagamitan.
 
Ang mga bentahe ng M&R na Ganap na Awtomatikong Developer ay kinabibilangan ng mabilis na pagpapatupad, na-customize na teknikal na suporta, matatag na suplay ng mga piyesa para sa pagkumpuni, mas nababaluktot na mga gastos, at mayamang karanasan sa integrasyon ng photoresist. Ang ganap na awtomatikong makina ng pag-develop ay epektibong nalulutas ang mga problema tulad ng hindi matatag na manwal na pag-develop, hindi pantay na daloy ng likido, labis na pagkakamali sa lapad ng linya, at kahirapan sa pag-uulit ng proseso. Para sa mga pabrika ng mass production, pagmamanupaktura ng MEMS, at industriya ng mga optoelectronic na bahagi at sensor, ito ang pinakamahusay na pagpipilian na pinagsasama ang pagganap, gastos, at pagiging maaasahan.

Mga Espesipikasyon

• Frame: SUS housing, WPP
• Mga Espesipikasyon ng Motor: AC Servo Motor
• Bilis ng Motor: 10-6000 RPM, na may mababang bilis na paddle
• Katumpakan ng Bilis: Pare-parehong bilis +/-1%
• Mekanismo ng Nozzle: 3 set ng mga likido spray nozzle, on-arm spray nozzle module
• Naaangkop na Sukat ng Wafer: 2”-8”
• Mekanismo ng Pad: Ceramic/tumutol sa acid at alkali, 45-degree chamfer upang maiwasan ang pagtagos ng PR
• Patag ng Pad: <10um
• Konfigurasyon ng Robot Arm: Dual-arm conveyor module
• Paraan ng Operasyon: Awtomatikong pagpapakain ng braso
• Sistema ng Kontrol: X-Y axis na gumagalaw na braso, PLC + Touch Panel, industrial control module (IPC + IO), 100 na ma-configure na recipe module
• Mga Kagamitan sa Kaligtasan: EMO emergency stop/buzzer, awtomatikong proteksyon sa operasyon, proteksyon sa pagtagas ng vacuum ng pad, pagtuklas ng vacuum

Konfigurasyon

• Spindle rotary motor
• Mekanismo ng pagdadala ng plato
• Sistema ng kontrol
• Mga aparato ng kaligtasan
• Sistema ng likido/pneumatic bearing
• Robotic na braso
• Arkitektura ng pagpoposisyon ng wafer

Mga Opsyon

• Arkitektura ng Komunikasyon ng SEMI Equipment
• Sistema ng Real-time Monitoring

Mga Aplikasyon

• Angkop para sa mga kapaligiran ng produksyon na may mataas na dami ng 2-inch hanggang 8-inch wafers o substrates.
• Malawakang ginagamit sa paggawa ng semiconductor, optoelectronics, MEMS, at mga proseso ng precision lithography.
• Partikular na kritikal para sa mass production at kontrol ng kalidad sa mga linya ng produksyon.