포토레지스트 | M&R 나노 기술 반도체 및 광전자 공정 장비
M&R는 IC 제조, 고급 패키징, MEMS 및 광학 부품을 포함한 다양한 공정 요구 사항을 지원하는 얇은 필름 및 두꺼운 필름 리소그래피 응용 프로그램을 위한 포토레지스트 솔루션을 제공합니다. 다양한 포토레지스트 조합을 통해 이러한 솔루션은 고해상도 패터닝, 높은 종횡비 구조, 금속 리프트오프 프로세스 및 영구 마이크로구조 제작을 다루어 고객이 R&D에서 대량 생산에 이르기까지 안정적이고 재현 가능한 리소그래피 프로세스를 구축하는 데 도움을 줍니다.고품질 반도체 및 광전자 공정 장비와 신뢰할 수 있는 맞춤형 제조를 위해 M&R 나노 기술을 선택하세요.
포토레지스트
M&R는 IC 제조, 고급 패키징, MEMS 및 광학 부품을 포함한 다양한 공정 요구 사항을 지원하는 얇은 필름 및 두꺼운 필름 리소그래피 응용 프로그램을 위한 포토레지스트 솔루션을 제공합니다. 다양한 포토레지스트 조합을 통해 이러한 솔루션은 고해상도 패터닝, 높은 종횡비 구조, 금속 리프트오프 프로세스 및 영구 마이크로구조 제작을 다루어 고객이 R&D에서 대량 생산에 이르기까지 안정적이고 재현 가능한 리소그래피 프로세스를 구축하는 데 도움을 줍니다.
프로세스 및 애플리케이션 범위
KemLab 포토레지스트 포트폴리오는 IC 제조를 위한 고해상도 박막 포토레지스트(예: KL 5300 시리즈)에서부터 전기 도금, 범프 및 TSV(K-PRO™ 시리즈)를 포함한 고비율 응용을 위한 고급 두꺼운 필름 포토레지스트에 이르는 주요 리소그래피 응용 분야를 아우릅니다. 이 포트폴리오는 MEMS, 마이크로유체 및 광학 부품 제작(SQ 및 HARE SQ™ 시리즈)을 위한 우수한 화학적 및 열적 안정성을 가진 소재도 포함하고 있습니다.
또한, APOL-LO 3200 및 KL IR 시리즈와 같은 금속 리프트오프 프로세스를 위한 전용 포뮬레이션이 제공되어 안정적인 언더컷 프로파일과 신뢰할 수 있는 금속 패턴 형성을 가능하게 합니다. 전반적으로 이러한 포토레지스트 솔루션은 마이크로전자 제조, 고급 패키징, MEMS 및 광학 산업 전반에 널리 적용되어 특정 프로세스 요구 사항에 따라 유연한 선택이 가능합니다.
핵심 제품 카테고리 및 응용 프로그램
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양성 필름 포토레지스트:
- 박막 응용 프로그램: KL 5300 시리즈는 IC 제조에 적합하며, 필름 두께 범위는 0.2 – 2.0 µm이고 해상도는 최대 0.55 마이크론입니다. KL 7000 시리즈는 PFAS가 없는 환경 친화적인 양성 필름 포토레지스트입니다.
- 두꺼운 필름 응용: K-PRO™ 시리즈(5 – 25+ µm)는 고급 포장, 범프, TSV 및 전기도금용으로 설계된 고급 두꺼운 필름 양성 필름 포토레지스트로, 높은 감도와 금속 호환성을 특징으로 합니다. KL 6000 시리즈(2.5 – 12 µm)도 고급 포장에 적합하며 PEB(노출 후 베이크) 없이 개발할 수 있습니다.
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부정형 포토레지스트 및 특수 포토레지스트:
- 리프트오프: APOL-LO 3200 시리즈는 금속 리프트오프를 위해 설계되어 금속층 제거를 용이하게 하는 경사진 구조를 생성합니다. KL IR 시리즈는 리프트오프 응용을 위해 양극 및 음극 모드 간에 전환 가능한 이미지 반전 포토레지스트입니다.
- 수직 구조: KL NPR 시리즈는 단일층 두께가 최대 20 µm인 수직 측벽 구조를 형성할 수 있으며, 뛰어난 열 안정성을 보여주고 (130°C 견딤), TSV, 전기도금 및 RIE 에칭에 적합합니다.
- 영구 재료: HARE SQ™ 시리즈는 에폭시 기반의 음성 포토레지스트(2–100 µm)입니다. 우수한 화학적, 기계적, 열적 저항성 덕분에 MEMS, 마이크로유체, 웨이브가이드 및 픽셀 벽과 같은 영구 마이크로 구조물 제작에 적합하며, SU-8을 대체할 수 있습니다.
- 전자빔 감광제: HARP™ PMMA 시리즈는 고해상도 전자빔 직접 작성을 위한 리소그래피를 위해 설계되었으며, 나노 스케일 패터닝에 적합합니다.
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포토레지스트전문 맞춤형 반도체 및 광전자 공정 장비
M&R NANO TECHNOLOGY는 고급 반도체, 광전자 및 테스트 응용 프로그램을 위해 설계된 고품질 포토레지스트 및 반도체 및 광전자 공정 장비를 제공합니다.저희 제품 라인에는 타이완 타오위안에 위치한 자동화 능력이 뛰어난 시설에서 제조된 정밀 마스크 정렬기, 스핀 코터 및 개발자가 포함되어 있습니다.
우리는 내부 연구개발 및 소형화 기술을 통해 안정적인 품질과 정밀한 맞춤화를 제공하는 데 집중합니다. 이를 통해 모든 시스템이 엄격한 프로세스 요구 사항을 충족하면서도 최종 사용자에게 실용적인 내구성, 저비용 및 높은 효율성을 유지할 수 있습니다.
글로벌 구매자를 위해, M&R NANO TECHNOLOGY는 소싱 프로세스를 간소화하는 신뢰할 수 있는 제조 지원을 제공합니다. 우리는 고객이 반도체 및 광전자 공정 장비를 성공적으로 생산에 투입할 수 있도록 반응적인 커뮤니케이션, 효율적인 자동화 통합, 일관된 애프터 서비스 유지 관리를 제공합니다.