Chất nhạy sáng | M&R CÔNG NGHỆ NANO Thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện tử
M&R cung cấp các giải pháp photoresist bao gồm cả ứng dụng lithography phim mỏng và phim dày, hỗ trợ một loạt các yêu cầu quy trình bao gồm sản xuất IC, đóng gói tiên tiến, MEMS và các thành phần quang học. Thông qua các công thức photoresist đa dạng, những giải pháp này giải quyết việc định hình độ phân giải cao, cấu trúc tỷ lệ khía cao, quy trình lift-off kim loại và chế tạo vi cấu trúc vĩnh viễn, giúp khách hàng thiết lập các quy trình lithography ổn định và có thể tái tạo từ R&D đến sản xuất hàng loạt.Chọn M&R CÔNG NGHỆ NANO cho thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện chất lượng cao và sản xuất tùy chỉnh đáng tin cậy.
Chất nhạy sáng
M&R cung cấp các giải pháp photoresist bao gồm cả ứng dụng lithography phim mỏng và phim dày, hỗ trợ một loạt các yêu cầu quy trình bao gồm sản xuất IC, đóng gói tiên tiến, MEMS và các thành phần quang học. Thông qua các công thức photoresist đa dạng, những giải pháp này giải quyết việc định hình độ phân giải cao, cấu trúc tỷ lệ khía cao, quy trình lift-off kim loại và chế tạo vi cấu trúc vĩnh viễn, giúp khách hàng thiết lập các quy trình lithography ổn định và có thể tái tạo từ R&D đến sản xuất hàng loạt.
Phạm vi Quy trình & Ứng dụng
Danh mục photoresist của KemLab bao gồm các ứng dụng lithography chính, từ các photoresist màng mỏng độ phân giải cao cho sản xuất IC (chẳng hạn như dòng KL 5300), đến các photoresist màng dày tiên tiến được thiết kế cho các ứng dụng tỷ lệ khía cao trong các quy trình đóng gói tiên tiến bao gồm điện phân, bumping và TSV (dòng K-PRO™). Danh mục đầu tư cũng bao gồm các vật liệu có độ ổn định hóa học và nhiệt độ tuyệt vời cho việc chế tạo MEMS, vi lưu chất và linh kiện quang học (dòng SQ và HARE SQ™).
Ngoài ra, có sẵn các công thức chuyên dụng cho quy trình tách kim loại, chẳng hạn như APOL-LO 3200 và dòng KL IR, cho phép tạo ra các hồ sơ cắt dưới ổn định và hình thành mẫu kim loại đáng tin cậy. Tổng thể, các giải pháp photoresist này được áp dụng rộng rãi trong sản xuất vi điện tử, đóng gói tiên tiến, MEMS và ngành công nghiệp quang học, cho phép lựa chọn linh hoạt theo các yêu cầu quy trình cụ thể.
Các danh mục sản phẩm chính và ứng dụng
-
Chất chống lóa phim dương:
- Ứng dụng phim mỏng: Dòng sản phẩm KL 5300 phù hợp cho sản xuất IC, với độ dày phim từ 0.2 – 2.0 µm và độ phân giải lên đến 0.55 micron. Dòng sản phẩm KL 7000 là chất chống lóa phim dương thân thiện với môi trường không chứa PFAS.
- Các ứng dụng phim dày: Dòng sản phẩm K-PRO™ (5 – 25+ µm) là các loại phim dày dương tính tiên tiến được thiết kế cho đóng gói tiên tiến, bumping, TSV và điện phân, với độ nhạy cao và khả năng tương thích với kim loại. Dòng KL 6000 (2.5 – 12 µm) cũng phù hợp cho đóng gói tiên tiến và có thể được phát triển mà không cần PEB (Nướng sau khi chiếu sáng).
-
Những loại photoresist âm và photoresist đặc biệt:
- Lift-Off: Dòng sản phẩm APOL-LO 3200 được thiết kế cho việc lift-off kim loại, tạo ra các cấu trúc vát cạnh giúp dễ dàng loại bỏ lớp kim loại. Dòng sản phẩm KL IR là một photoresist đảo ngược hình ảnh, có thể chuyển đổi giữa chế độ dương và âm cho các ứng dụng lift-off.
- Cấu trúc thẳng đứng: Dòng sản phẩm KL NPR có thể tạo ra các cấu trúc tường bên thẳng đứng với độ dày một lớp lên đến 20 µm, thể hiện độ ổn định nhiệt tuyệt vời (chịu được 130°C), phù hợp cho TSV, điện phân và khắc RIE.
- Vật liệu vĩnh viễn: Dòng sản phẩm HARE SQ™ là một loại photoresist âm dựa trên epoxy (2–100 µm). Nhờ vào khả năng chống hóa chất, cơ học và nhiệt độ tuyệt vời, nó phù hợp để chế tạo các cấu trúc vi mô vĩnh viễn như MEMS, vi lưu, hướng sóng và tường pixel, và có thể thay thế SU-8.
- Chất chống lại chùm electron: Dòng HARP™ PMMA được thiết kế cho công nghệ in lithography trực tiếp bằng chùm electron độ phân giải cao và phù hợp cho việc tạo mẫu ở quy mô nano.
- Tải xuống
-
Tải xuống Sản phẩm hot
Chất nhạy sángThiết bị Quy trình Bán dẫn & Quang điện Tùy chỉnh Chuyên nghiệp
M&R CÔNG NGHỆ NANO cung cấp Chất nhạy sáng chất lượng cao và thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện được thiết kế cho các ứng dụng bán dẫn, quang điện và thử nghiệm tiên tiến.Dòng sản phẩm của chúng tôi bao gồm các máy căn chỉnh mặt nạ chi tiết, máy phủ spin và máy phát triển được sản xuất tại cơ sở của chúng tôi ở Đài Nguyên, Đài Loan với khả năng tự động hóa mạnh mẽ.
Chúng tôi tập trung vào việc cung cấp chất lượng ổn định và tùy chỉnh chính xác thông qua công nghệ R&D và thu nhỏ trong nhà. Điều này đảm bảo rằng mỗi hệ thống đáp ứng các yêu cầu quy trình nghiêm ngặt trong khi vẫn duy trì độ bền thực tế, chi phí thấp và hiệu quả cao cho người dùng cuối.
Đối với các nhà mua sắm toàn cầu, M&R CÔNG NGHỆ NANO cung cấp hỗ trợ sản xuất đáng tin cậy giúp đơn giản hóa quy trình tìm nguồn. Chúng tôi cung cấp giao tiếp nhanh nhạy, tích hợp tự động hóa hiệu quả và bảo trì sau bán hàng nhất quán để giúp khách hàng thành công đưa thiết bị quy trình bán dẫn & quang điện của họ vào sản xuất.