M&R NANO TECHNOLOGY CO., LTD. - 黄光プロセス用の専門的な半導体およびオプトエレクトロニクス装置

フォトレジスト | M&R ナノテクノロジー 半導体＆オプトエレクトロニクスプロセス装置

M&Rは、薄膜および厚膜リソグラフィーアプリケーションをカバーするフォトレジストソリューションを提供し、IC製造、高度なパッケージング、MEMS、光学部品など、幅広いプロセス要件をサポートします。 多様なフォトレジストの配合を通じて、これらのソリューションは高解像度のパターン形成、高アスペクト比構造、金属リフトオフプロセス、永続的な微細構造の製造に対応し、顧客が研究開発から量産に至るまで安定した再現性のあるリソグラフィプロセスを確立するのを支援します。高品質な半導体およびオプトエレクトロニクスプロセス装置と信頼性の高いカスタマイズ製造のために、M&Rナノテクノロジーを選択してください。

フォトレジスト

私たちはKemLabフォトレジストのディストリビューターです。

フォトレジスト - 私たちはKemLabフォトレジストのディストリビューターです。
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  • KemLab KL5300
  • KemLab HARP PMMA
  • ケムラボ SQ

フォトレジスト

M&Rは、薄膜および厚膜リソグラフィーアプリケーションをカバーするフォトレジストソリューションを提供し、IC製造、高度なパッケージング、MEMS、光学部品など、幅広いプロセス要件をサポートします。 多様なフォトレジストの配合を通じて、これらのソリューションは高解像度のパターン形成、高アスペクト比構造、金属リフトオフプロセス、永続的な微細構造の製造に対応し、顧客が研究開発から量産に至るまで安定した再現性のあるリソグラフィプロセスを確立するのを支援します。

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プロセスとアプリケーションのカバレッジ

KemLabのフォトレジストポートフォリオは、IC製造用の高解像度薄膜フォトレジスト（KL 5300シリーズなど）から、電気めっき、バンピング、TSV（K-PRO™シリーズ）を含む高度なパッケージングプロセスにおける高アスペクト比アプリケーション向けに設計された高度な厚膜フォトレジストまで、主要なリソグラフィーアプリケーションを網羅しています。 ポートフォリオには、MEMS、マイクロフルイディクス、光学部品の製造（SQおよびHARE SQ™シリーズ）に優れた化学的および熱的安定性を持つ材料も含まれています。
さらに、APOL-LO 3200やKL IRシリーズなどの金属リフトオフプロセス専用の配合が利用可能で、安定したアンダーカットプロファイルと信頼性の高い金属パターン形成を実現します。全体として、これらのフォトレジストソリューションは、マイクロエレクトロニクス製造、高度なパッケージング、MEMS、光学産業に広く適用されており、特定のプロセス要件に応じた柔軟な選択を可能にします。

コア製品カテゴリとアプリケーション
  • ポジティブフィルムフォトレジスト:
  • 薄膜アプリケーション：KL 5300シリーズはIC製造に適しており、フィルム厚さの範囲は0.2～2.0µm、解像度は最大0.55ミクロンです。KL 7000シリーズはPFASを含まない環境に優しいポジティブフィルムフォトレジストです。
  • 厚膜用途：K-PRO™シリーズ（5 – 25+ µm）は、高感度と金属適合性を備えた先進的なパッケージング、バンピング、TSV、電気めっき用に設計された先進的な厚膜正のフォトレジストです。KL 6000シリーズ（2.5 – 12 µm）も先進的なパッケージングに適しており、PEB（ポストエクスポージャーベーク）なしで現像できます。
  • ネガティブフォトレジストと特殊フォトレジスト:
  • リフトオフ: APOL-LO 3200 シリーズは金属リフトオフ用に設計されており、金属層の除去を容易にするベベル構造を作成します。 KL IR シリーズはイメージ反転フォトレジストで、リフトオフ用途向けにポジモードとネガモードを切り替え可能です。
  • 垂直構造: KL NPR シリーズは、単層厚さ 20 µm までの垂直側壁構造を形成でき、優れた熱安定性 (130°C 耐性) を示し、TSV、電気めっき、RIE エッチングに適しています。
  • 永久材料：HARE SQ™シリーズはエポキシベースのネガフォトレジスト（2〜100µm）です。その優れた化学的、機械的、熱的耐性により、MEMS、マイクロフルイディクス、導波管、ピクセル壁などの永久的なマイクロ構造の製造に適しており、SU-8の代替として使用できます。
  • 電子ビームレジスト：HARP™ PMMAシリーズは、高解像度の電子ビーム直接書き込みリソグラフィー用に設計されており、ナノスケールのパターニングに適しています。
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フォトレジストプロフェッショナルカスタム半導体およびオプトエレクトロニクスプロセス装置

M&R NANO TECHNOLOGYは、高品質のフォトレジストおよび先進的な半導体、オプトエレクトロニクス、テストアプリケーション向けに設計された半導体およびオプトエレクトロニクスプロセス機器を提供します。私たちの製品ラインには、台湾の桃園工場で製造された詳細なマスクアライナー、スピンコーター、デベロッパーが含まれており、高度な自動化機能を備えています。

私たちは、社内の研究開発と小型化技術を通じて、安定した品質と正確なカスタマイズを提供することに重点を置いています。これにより、すべてのシステムが厳格なプロセス要件を満たしながら、実用的な耐久性、低コスト、高効率をエンドユーザーに提供します。

グローバルバイヤー向けに、M&R NANO TECHNOLOGYは、調達プロセスを簡素化する信頼性の高い製造サポートを提供します。私たちは、顧客が半導体およびオプトエレクトロニクスのプロセス機器を成功裏に生産に移行できるよう、迅速なコミュニケーション、効率的な自動化統合、そして一貫したアフターセールスメンテナンスを