Photoresist | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik
M&R menyediakan penyelesaian photoresist yang merangkumi aplikasi litografi filem nipis dan filem tebal, menyokong pelbagai keperluan proses termasuk pembuatan IC, pembungkusan lanjutan, MEMS, dan komponen optik. Melalui pelbagai formulasi fotoresist, penyelesaian ini menangani pola resolusi tinggi, struktur nisbah aspek tinggi, proses pengangkatan logam, dan pembuatan mikrostruktur kekal, membantu pelanggan mewujudkan proses litografi yang stabil dan boleh diulang dari R&D hingga pengeluaran besar-besaran.Pilih M&R NANO TEKNOLOGI untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualiti tinggi dan pembuatan tersuai yang boleh dipercayai.
Photoresist
M&R menyediakan penyelesaian photoresist yang merangkumi aplikasi litografi filem nipis dan filem tebal, menyokong pelbagai keperluan proses termasuk pembuatan IC, pembungkusan lanjutan, MEMS, dan komponen optik. Melalui pelbagai formulasi fotoresist, penyelesaian ini menangani pola resolusi tinggi, struktur nisbah aspek tinggi, proses pengangkatan logam, dan pembuatan mikrostruktur kekal, membantu pelanggan mewujudkan proses litografi yang stabil dan boleh diulang dari R&D hingga pengeluaran besar-besaran.
Proses & Liputan Aplikasi
Portfolio photoresist KemLab merangkumi aplikasi litografi utama, dari photoresist filem nipis resolusi tinggi untuk pembuatan IC (seperti siri KL 5300), hingga photoresist filem tebal yang direka untuk aplikasi nisbah aspek tinggi dalam proses pembungkusan lanjutan termasuk elektroplating, bumping, dan TSV (siri K-PRO™). Portfolio ini juga merangkumi bahan dengan kestabilan kimia dan terma yang cemerlang untuk MEMS, mikrofluida, dan pembuatan komponen optik (seri SQ dan HARE SQ™).
Selain itu, formulasi khusus untuk proses pengangkatan logam tersedia, seperti APOL-LO 3200 dan siri KL IR, yang membolehkan profil undercut yang stabil dan pembentukan corak logam yang boleh dipercayai. Secara keseluruhan, penyelesaian photoresist ini digunakan secara meluas dalam pembuatan mikroelektronik, pembungkusan maju, MEMS, dan industri optik, membolehkan pemilihan yang fleksibel mengikut keperluan proses tertentu.
Kategori Produk Utama dan Aplikasi
-
Fotoresis Filem Positif:
- Aplikasi Filem Nipis: Siri KL 5300 sesuai untuk pembuatan IC, dengan julat ketebalan filem 0.2 – 2.0 µm dan resolusi sehingga 0.55 mikron. Siri KL 7000 adalah fotoresis filem positif yang mesra alam tanpa PFAS.
- Aplikasi Filem Tebal: Siri K-PRO™ (5 – 25+ µm) adalah photoresist filem positif tebal yang canggih direka untuk pembungkusan canggih, bumping, TSV, dan electroplating, dengan kepekaan tinggi dan keserasian logam. Siri KL 6000 (2.5 – 12 µm) juga sesuai untuk pembungkusan canggih dan boleh dibangunkan tanpa PEB (Post-Exposure Bake).
-
Photoresist Negatif dan Photoresist Khas:
- Lift-Off: Siri APOL-LO 3200 direka untuk metal lift-off, mencipta struktur bersudut yang memudahkan pengeluaran lapisan logam. Siri KL IR adalah photoresist yang membalikkan imej, boleh ditukar antara mod positif dan negatif untuk aplikasi lift-off.
- Struktur Menegak: Siri KL NPR boleh membentuk struktur dinding sisi menegak dengan ketebalan lapisan tunggal sehingga 20 µm, menunjukkan kestabilan terma yang sangat baik (tahan pada 130°C), sesuai untuk TSV, electroplating, dan pengukiran RIE.
- Bahan Kekal: Siri HARE SQ™ adalah fotoresist negatif berasaskan epoksi (2–100 µm). Oleh kerana ketahanan kimia, mekanikal, dan terma yang sangat baik, ia sesuai untuk menghasilkan mikrostruktur kekal seperti MEMS, mikrofluida, pandu gelombang, dan dinding piksel, dan boleh menggantikan SU-8.
- Resist Berkas Elektron: Siri HARP™ PMMA direka untuk litografi penulisan langsung berkas elektron resolusi tinggi dan sesuai untuk corak skala nano.
- Muat Turun
-
Download Produk Panas
Tags
PhotoresistPeralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik Kustom Profesional
M&R NANO TECHNOLOGY menyediakan Photoresist berkualiti tinggi dan peralatan proses semikonduktor & optoelektronik yang direka untuk aplikasi semikonduktor, optoelektronik, dan pengujian yang maju.Barisan produk kami termasuk Penjajar Masker terperinci, Pelapis Putar, dan Pembangun yang dihasilkan di kemudahan kami di Taoyuan, Taiwan dengan keupayaan automasi yang kuat.
Kami memberi tumpuan kepada penyampaian kualiti yang stabil dan penyesuaian yang tepat melalui R&D dalaman dan teknologi miniaturisasi kami. Ini memastikan bahawa setiap sistem memenuhi keperluan proses yang ketat sambil mengekalkan ketahanan praktikal, kos rendah, dan kecekapan tinggi untuk pengguna akhir.
Untuk pembeli global, M&R NANO TECHNOLOGY menawarkan sokongan pembuatan yang boleh dipercayai yang memudahkan proses pengambilan sumber. Kami menyediakan komunikasi yang responsif, integrasi automasi yang cekap, dan penyelenggaraan selepas jualan yang konsisten untuk membantu pelanggan membawa peralatan proses semikonduktor & optoelektronik mereka ke dalam pengeluaran dengan jayanya.