Photolack | M&R NANO TECHNOLOGIE Halbleiter & Optoelektronik Prozessausrüstung
M&R bietet Fotolacklösungen für sowohl Dünnfilm- als auch Dickfilm-Lithografieanwendungen und unterstützt eine Vielzahl von Prozessanforderungen, einschließlich IC-Herstellung, fortschrittlicher Verpackung, MEMS und optischen Komponenten. Durch verschiedene Fotolackformulierungen adressieren diese Lösungen hochauflösende Musterung, Strukturen mit hohem Aspektverhältnis, Metallabhebungsprozesse und die Herstellung permanenter Mikostrukturen, wodurch Kunden helfen, stabile und reproduzierbare Lithografieprozesse von der Forschung und Entwicklung bis zur Serienproduktion zu etablieren.Wählen Sie M&R NANO TECHNOLOGIE für hochwertige Halbleiter- und optoelektronische Prozessgeräte sowie zuverlässige maßgeschneiderte Fertigung.
Photolack
M&R bietet Fotolacklösungen für sowohl Dünnfilm- als auch Dickfilm-Lithografieanwendungen und unterstützt eine Vielzahl von Prozessanforderungen, einschließlich IC-Herstellung, fortschrittlicher Verpackung, MEMS und optischen Komponenten. Durch verschiedene Fotolackformulierungen adressieren diese Lösungen hochauflösende Musterung, Strukturen mit hohem Aspektverhältnis, Metallabhebungsprozesse und die Herstellung permanenter Mikostrukturen, wodurch Kunden helfen, stabile und reproduzierbare Lithografieprozesse von der Forschung und Entwicklung bis zur Serienproduktion zu etablieren.
Prozess- und Anwendungsabdeckung
Das KemLab-Portfolio an Fotolacken umfasst wichtige Lithografieanwendungen, die von hochauflösenden Dünnfilm-Fotolacken für die IC-Herstellung (wie die KL 5300-Serie) bis hin zu fortschrittlichen Dickfilm-Fotolacken reichen, die für Anwendungen mit hohem Aspektverhältnis in fortschrittlichen Verpackungsprozessen, einschließlich Galvanik, Bumping und TSV (K-PRO™-Serie), entwickelt wurden. Das Portfolio umfasst auch Materialien mit hervorragender chemischer und thermischer Stabilität für MEMS, Mikrofluidik und die Herstellung optischer Komponenten (SQ- und HARE SQ™-Serien).
Darüber hinaus sind spezielle Formulierungen für Metall-Abhebungsprozesse verfügbar, wie die APOL-LO 3200 und KL IR Serien, die stabile Unterschnittprofile und zuverlässige Metallmusterbildung ermöglichen. Insgesamt werden diese Fotolacklösungen in der Mikroelektronikfertigung, der fortschrittlichen Verpackung, MEMS und der optischen Industrie weit verbreitet eingesetzt, was eine flexible Auswahl entsprechend den spezifischen Prozessanforderungen ermöglicht.
Kernproduktkategorien und Anwendungen
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Positive Fotolacke:
- Dünnschichtanwendungen: Die KL 5300-Serie eignet sich für die IC-Herstellung, mit einem Filmstärkenbereich von 0,2 – 2,0 µm und einer Auflösung von bis zu 0,55 Mikron. Die KL 7000-Serie ist ein umweltfreundlicher positiver Fotolack ohne PFAS.
- Dicke Film-Anwendungen: Die K-PRO™-Serie (5 – 25+ µm) sind fortschrittliche dicke Film-Positiv-Fotolacke, die für fortschrittliche Verpackungen, Bumping, TSV und Galvanisierung entwickelt wurden und hohe Empfindlichkeit sowie Metallkompatibilität bieten. Die KL 6000-Serie (2,5 – 12 µm) ist ebenfalls für fortschrittliche Verpackungen geeignet und kann ohne PEB (Post-Exposure Bake) entwickelt werden.
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Negative Fotolacke und spezielle Fotolacke:
- Lift-Off: Die APOL-LO 3200-Serie ist für das Metal-Lift-Off konzipiert und erstellt abgeschrägte Strukturen, die die Entfernung der Metallschicht erleichtern. Die KL IR-Serie ist ein bildumkehrender Photoresist, der zwischen positiven und negativen Modi für Lift-Off-Anwendungen umgeschaltet werden kann.
- Vertikale Strukturen: Die KL NPR-Serie kann vertikale Seitenwandstrukturen mit einer Schichtdicke von bis zu 20 µm bilden und zeigt eine hervorragende thermische Stabilität (beständig bis 130°C), geeignet für TSV, Galvanik und RIE-Ätzen.
- Dauerhafte Materialien: Die HARE SQ™-Serie ist ein epoxidharzbasiertes negatives Fotolack (2–100 µm). Aufgrund ihrer hervorragenden chemischen, mechanischen und thermischen Beständigkeit eignet sie sich zur Herstellung dauerhafter Mikrostrukturen wie MEMS, Mikrofluidik, Wellenleiter und Pixelwände und kann SU-8 ersetzen.
- Elektronenstrahl-Resist: Die HARP™ PMMA-Serie ist für die hochauflösende Elektronenstrahl-Lithografie konzipiert und eignet sich für die Nanoskalierung von Mustern.
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PhotolackProfessionelle maßgeschneiderte Halbleiter- & optoelektronische Prozessgeräte
M&R NANO TECHNOLOGY bietet hochwertige Photolack sowie Halbleiter- und optoelektronische Prozessgeräte, die für fortschrittliche Halbleiter-, optoelektronische und Testanwendungen entwickelt wurden.Unsere Produktlinie umfasst detaillierte Masken-Aligner, Spin-Coater und Entwickler, die in unserem Werk in Taoyuan, Taiwan, mit starken Automatisierungsfähigkeiten hergestellt werden.
Wir konzentrieren uns darauf, stabile Qualität und präzise Anpassungen durch unsere interne Forschung und Entwicklung sowie Miniaturisierungstechnologie zu liefern. Dies stellt sicher, dass jedes System strengen Prozessanforderungen entspricht und gleichzeitig praktische Haltbarkeit, niedrige Kosten und hohe Effizienz für die Endbenutzer aufrechterhält.
Für globale Käufer bietet M&R NANO TECHNOLOGY zuverlässige Fertigungsunterstützung, die den Beschaffungsprozess vereinfacht. Wir bieten reaktionsschnelle Kommunikation, effiziente Automatisierungsintegration und konsistente Wartung nach dem Verkauf, um unseren Kunden zu helfen, ihre Halbleiter- und optoelektronischen Prozessgeräte erfolgreich in die Produktion zu bringen.