M&R NANO TECHNOLOGY CO., LTD. - Peralatan Semikonduktor dan Optoelektronik Khusus untuk Proses Cahaya Kuning

fotoresist | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik

M&R menyediakan solusi photoresist yang mencakup aplikasi litografi film tipis dan film tebal, mendukung berbagai kebutuhan proses termasuk pembuatan IC, kemasan canggih, MEMS, dan komponen optik. Melalui berbagai formulasi photoresist, solusi ini menangani pola resolusi tinggi, struktur rasio aspek tinggi, proses pengangkatan logam, dan pembuatan mikrostruktur permanen, membantu pelanggan membangun proses litografi yang stabil dan dapat direproduksi dari R&D hingga produksi massal.Pilih M&R NANO TECHNOLOGY untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualitas tinggi dan manufaktur kustom yang dapat diandalkan.

fotoresist

Kami adalah distributor dari photoresist KemLab.

fotoresist - Kami adalah distributor dari photoresist KemLab.
  • fotoresist - Kami adalah distributor dari photoresist KemLab.
  • KemLab KL5300
  • KemLab HARP PMMA
  • KemLab SQ

fotoresist

M&R menyediakan solusi photoresist yang mencakup aplikasi litografi film tipis dan film tebal, mendukung berbagai kebutuhan proses termasuk pembuatan IC, kemasan canggih, MEMS, dan komponen optik. Melalui berbagai formulasi photoresist, solusi ini menangani pola resolusi tinggi, struktur rasio aspek tinggi, proses pengangkatan logam, dan pembuatan mikrostruktur permanen, membantu pelanggan membangun proses litografi yang stabil dan dapat direproduksi dari R&D hingga produksi massal.

Tanyakan Sekarang
Proses & Cakupan Aplikasi

Portofolio photoresist KemLab mencakup aplikasi litografi utama, mulai dari photoresist film tipis resolusi tinggi untuk pembuatan IC (seperti seri KL 5300), hingga photoresist film tebal canggih yang dirancang untuk aplikasi rasio aspek tinggi dalam proses pengemasan canggih termasuk elektroplating, bumping, dan TSV (seri K-PRO™). Portofolio ini juga mencakup bahan dengan stabilitas kimia dan termal yang sangat baik untuk pembuatan MEMS, mikrofluida, dan komponen optik (seri SQ dan HARE SQ™).
Selain itu, formulasi khusus untuk proses pengangkatan logam tersedia, seperti seri APOL-LO 3200 dan KL IR, yang memungkinkan profil undercut yang stabil dan pembentukan pola logam yang dapat diandalkan. Secara keseluruhan, solusi photoresist ini banyak diterapkan di bidang manufaktur mikroelektronik, kemasan canggih, MEMS, dan industri optik, memungkinkan pemilihan yang fleksibel sesuai dengan kebutuhan proses tertentu.

Kategori Produk Inti dan Aplikasi
  • Fotoresist Film Positif:
  • Aplikasi Film Tipis: Seri KL 5300 cocok untuk pembuatan IC, dengan rentang ketebalan film 0,2 – 2,0 µm dan resolusi hingga 0,55 mikron. Seri KL 7000 adalah fotoresist film positif ramah lingkungan tanpa PFAS.
  • Aplikasi Film Tebal: Seri K-PRO™ (5 – 25+ µm) adalah photoresist film positif tebal canggih yang dirancang untuk kemasan canggih, bumping, TSV, dan elektroplating, dengan sensitivitas tinggi dan kompatibilitas logam. Seri KL 6000 (2.5 – 12 µm) juga cocok untuk kemasan canggih dan dapat dikembangkan tanpa PEB (Post-Exposure Bake).
  • Photoresist Negatif dan Photoresist Khusus:
  • Lift-Off: Seri APOL-LO 3200 dirancang untuk metal lift-off, menciptakan struktur bevel yang memudahkan penghilangan lapisan metal. Seri KL IR adalah photoresist pembalik gambar, dapat beralih antara mode positif dan negatif untuk aplikasi lift-off.
  • Struktur Vertikal: Seri KL NPR dapat membentuk struktur dinding samping vertikal dengan ketebalan lapisan tunggal hingga 20 µm, menunjukkan stabilitas termal yang sangat baik (tahan hingga 130°C), cocok untuk TSV, elektroplating, dan etsa RIE.
  • Bahan Permanen: Seri HARE SQ™ adalah photoresist negatif berbasis epoksi (2–100 µm). Karena ketahanan kimia, mekanik, dan termalnya yang sangat baik, ini cocok untuk membuat mikrostruktur permanen seperti MEMS, mikrofluida, pandu gelombang, dan dinding piksel, dan dapat menggantikan SU-8.
  • Resist Berkas Elektron: Seri HARP™ PMMA dirancang untuk litografi penulisan langsung berkas elektron resolusi tinggi dan cocok untuk pola skala nano.
Unduh

Produk

DM Unduh

Katalog produk, silakan unduh.

Hubungi kami

Hubungi kami sekarang!

Terima Kasih.

Keterangan lebih lanjut

fotoresistPeralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik Kustom Profesional

M&R NANO TECHNOLOGY menyediakan fotoresist berkualitas tinggi dan peralatan proses semikonduktor & optoelektronik yang dirancang untuk aplikasi semikonduktor, optoelektronik, dan pengujian yang canggih.Rangkaian produk kami mencakup Mask Aligners, Spin Coaters, dan Developers yang diproduksi di fasilitas kami di Taoyuan, Taiwan dengan kemampuan otomatisasi yang kuat.

Kami fokus pada penyampaian kualitas yang stabil dan kustomisasi yang tepat melalui R&D internal dan teknologi miniaturisasi kami. Ini memastikan bahwa setiap sistem memenuhi persyaratan proses yang ketat sambil mempertahankan daya tahan praktis, biaya rendah, dan efisiensi tinggi untuk pengguna akhir.

Untuk pembeli global, M&R NANO TECHNOLOGY menawarkan dukungan manufaktur yang dapat diandalkan yang menyederhanakan proses pengadaan. Kami menyediakan komunikasi yang responsif, integrasi otomatisasi yang efisien, dan pemeliharaan purna jual yang konsisten untuk membantu pelanggan berhasil membawa peralatan proses semikonduktor & optoelektronik mereka ke dalam produksi.