एचिंग उपकरण | M&R नैनो प्रौद्योगिकी सेमीकंडक्टर & ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण

M&R की एचिंग उपकरण को पीपी, पीवीडीएफ, और पीएफए जैसे जंग-प्रतिरोधी सामग्रियों का उपयोग करके निर्मित किया गया है, और इसे कई प्रक्रिया टैंकों के साथ कॉन्फ़िगर किया गया है, जिसमें क्यूडीआर टैंक, रासायनिक टैंक, हीटिंग मॉड्यूल, ओ.एफ टैंक, और एचएफ/एससी1 टैंक शामिल हैं, जो विभिन्न प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए लचीली कॉन्फ़िगरेशन की अनुमति देते हैं।
इस प्रणाली में एक DI पानी धोने का टैंक और एक N₂ सुखाने का स्प्रे गन भी शामिल है। टैंक के आकार को विभिन्न वेफर आयामों का समर्थन करने के लिए अनुकूलित किया जा सकता है, जिसमें वैकल्पिक रासायनिक हीटिंग और परिसंचरण फ़िल्ट्रेशन सिस्टम उपलब्ध हैं।
नियंत्रण प्रणाली एक PLC नियंत्रक का उपयोग करती है जो एक HMI (मानव-यांत्रिक इंटरफेस) के साथ मिलकर वास्तविक समय में ऑपरेटर इंटरफेस पर असामान्य स्थितियों की निगरानी और प्रदर्शन की अनुमति देती है। रेसिपी प्रबंधन और स्वचालित संचालन को विकल्पों के रूप में कॉन्फ़िगर किया जा सकता है। संचालन सुरक्षा सुनिश्चित करने के लिए, उपकरण को एसिड गैस जंग, लीक सर्किट सुरक्षा, अधिक तापमान और ओवरलोड सुरक्षा, नीचे लीक पहचान, अपशिष्ट तरल और निकासी निकासी, असामान्य तरल स्तर पहचान, और एक ईएमओ (आपातकालीन बंद) प्रणाली से बचाने के लिए सकारात्मक दबाव नियंत्रण कैबिनेट से लैस किया गया है। CO₂ अग्निशामक प्रणाली एक वैकल्पिक सुरक्षा विशेषता के रूप में भी उपलब्ध है।उच्च गुणवत्ता वाले सेमीकंडक्टर और ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक प्रक्रिया उपकरण और विश्वसनीय कस्टम निर्माताओं के लिए M&R नैनो प्रौद्योगिकी चुनें।