Équipement de gravure
L'équipement de gravure de M&R est fabriqué à partir de matériaux résistants à la corrosion tels que le PP, le PVDF et le PFA, et est configuré avec plusieurs cuves de traitement, y compris des cuves QDR, des cuves chimiques, des modules de chauffage, des cuves O.F et des cuves HF/SC1, permettant une configuration flexible pour répondre à différentes exigences de traitement.
Le système comprend également un réservoir de rinçage à l'eau DI et un pistolet de pulvérisation à séchage à l'azote (N₂). Les tailles de réservoir peuvent être personnalisées pour s'adapter à différentes dimensions de plaquettes, avec des systèmes de chauffage chimique et de filtration en circulation en option.
Le système de contrôle utilise un contrôleur PLC combiné à une IHM (Interface Homme-Machine), permettant la surveillance en temps réel et l'affichage des conditions anormales à l'interface de l'opérateur. La gestion des recettes et l'opération automatisée peuvent être configurées en tant qu'options. Pour garantir la sécurité opérationnelle, l'équipement est équipé d'un armoire de contrôle à pression positive pour prévenir la corrosion par les gaz acides, la protection contre les fuites de circuit, la protection contre la surchauffe et la surcharge, la détection de fuites au fond, l'extraction des liquides usés et des gaz d'échappement, la détection de niveaux de liquide anormaux, et un système EMO (Arrêt d'urgence). Un système d'extinction d'incendie au CO₂ est également disponible en tant que caractéristique de sécurité optionnelle.
Spécifications
- Cadre : coque SUS, WPP
- Système d'alimentation en acide, de circulation et de drainage.
- Fonction d'interverrouillage
- Fonction de contrôle de la température du réservoir
- Fonction de compteur de résistance à l'eau
- Fonction du mécanisme de séchage
- Système de ventilation
- Système d'évacuation des liquides usés
Configuration
- Réservoir résistant à la corrosion
- Arrêt d'urgence MO
- Détection de fuites
- Système d'émission de liquides usés et de gaz d'échappement
- Séchage au pistolet à spray N2
- FFU (Unité de filtre à ventilateur)
- Éclairage à lumière jaune
- Lumières d'avertissement tricolores
Possibilités
- Système de suppression d'incendie au CO2
- Fonction d'oscillateur ultrasonique
- Système d'alimentation sans interruption (ASI)
- Système d'élimination de l'électricité statique
- Système de réapprovisionnement automatique en liquide
- Protocole de communication SECS/GEM
Applications
- Diodes électroluminescentes (DEL)
- DEL
- Semi-conducteurs
- Systèmes microélectromécaniques (MEMS)
- Composants passifs
- Composants électroniques de précision
Équipement de gravureÉquipement de processus semi-conducteurs et optoélectroniques sur mesure
M&R NANO TECHNOLOGY fournit des équipements de processus de haute qualité en Équipement de gravure et en semi-conducteurs & optoélectronique, conçus pour des applications avancées en semi-conducteurs, optoélectronique et tests.Notre gamme de produits comprend des aligneurs de masques détaillés, des revêtements par rotation et des développeurs fabriqués dans notre usine de Taoyuan, à Taïwan, dotée de fortes capacités d'automatisation.
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