Stepper i-line | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik

Stepper i-line adalah perangkat fotolitografi yang menggunakan sumber cahaya dengan panjang gelombang 365nm untuk eksposur, terutama digunakan dalam proses semikonduktor dengan resolusi tingkat mikron dan dalam MEMS, perangkat daya, dan bidang lainnya. Keuntungannya termasuk stabilitas tinggi dan biaya rendah, menjadikannya cocok untuk proses yang matang dan aplikasi fotoresist tebal.
Stepper i-line mencapai transfer pola presisi tinggi dengan memproyeksikan pola sirkuit yang diperkecil dari sebuah masker ke permukaan wafer yang dilapisi fotoresist. Resolusi dari i-line stepper biasanya sekitar 350nm, cocok untuk proses yang matang dan pembuatan struktur tingkat mikron. Karena panjang gelombang sumber cahaya yang digunakan lebih panjang, sistem i-line menunjukkan kinerja yang sangat baik dalam hal ketebalan photoresist dan toleransi kelengkungan wafer, menjadikannya sangat cocok untuk proses photoresist tebal dan wafer semikonduktor senyawa dengan kelengkungan yang signifikan, seperti SiC dan GaN. Peralatan ini dilengkapi dengan sistem fokus otomatis, penyeimbangan multi-titik, dan sistem penyelarasan presisi tinggi untuk memastikan kualitas eksposur dan akurasi tumpang tindih pola multi-lapis. Dibandingkan dengan peralatan litografi ultraviolet dalam yang canggih, steppers i-line lebih murah, lebih stabil dalam operasi, dan lebih mudah untuk dipelihara, menjadikannya cocok untuk kebutuhan resolusi rendah hingga menengah dan aplikasi produksi volume tinggi. Selain itu, i-line steppers juga sering digunakan di bidang pendidikan dan R&D karena harganya yang lebih rendah dan ambang operasi yang lebih rendah. Secara keseluruhan, i-line steppers terus memainkan peran penting dalam proses manufaktur yang matang, dan sangat cocok untuk aplikasi seperti perangkat daya, MEMS, dan sensor.Pilih M&R NANO TECHNOLOGY untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualitas tinggi dan manufaktur kustom yang dapat diandalkan.