Stepper i-line | M&R TEKNOLOGI NANO Peralatan Proses Semikonduktor & Optoelektronik

Stepper i-line adalah peranti fotolitografi yang menggunakan sumber cahaya dengan panjang gelombang 365nm untuk pendedahan, terutamanya digunakan dalam proses semikonduktor dengan resolusi tahap mikron dan dalam MEMS, peranti kuasa, dan bidang lain. Kelebihannya termasuk kestabilan tinggi dan kos rendah, menjadikannya sesuai untuk proses matang dan aplikasi fotoresist tebal.
Stepper i-line mencapai pemindahan corak ketepatan tinggi dengan memproyeksikan corak litar yang diperkecil dari topeng ke permukaan wafer yang dilapisi fotoresist. Resolusi langkah i-line biasanya sekitar 350nm, sesuai untuk proses matang dan pembuatan struktur pada tahap mikron. Disebabkan oleh panjang gelombang sumber cahaya yang digunakan, sistem i-line menunjukkan prestasi yang cemerlang dari segi ketebalan fotoresist dan toleransi kelengkungan wafer, menjadikannya sangat sesuai untuk proses fotoresist tebal dan wafer semikonduktor sebatian dengan kelengkungan yang ketara, seperti SiC dan GaN. Peralatan ini dilengkapi dengan sistem fokus automatik, penentuan tahap pelbagai titik, dan sistem penjajaran ketepatan tinggi untuk memastikan kualiti pendedahan dan ketepatan tumpang tindih corak berlapis. Berbanding dengan peralatan litografi ultraviolet dalam yang maju, steppers i-line adalah lebih murah, lebih stabil dalam operasi, dan lebih mudah untuk diselenggara, menjadikannya sesuai untuk keperluan resolusi rendah hingga sederhana dan aplikasi pengeluaran bervolume tinggi. Selain itu, i-line steppers juga sering digunakan dalam bidang pendidikan dan R&D kerana harga yang lebih rendah dan ambang operasi yang lebih rendah. Secara keseluruhan, i-line steppers terus memainkan peranan penting dalam proses pembuatan yang matang, dan sangat sesuai untuk aplikasi seperti peranti kuasa, MEMS, dan sensor.Pilih M&R NANO TEKNOLOGI untuk peralatan proses semikonduktor & optoelektronik berkualiti tinggi dan pembuatan tersuai yang boleh dipercayai.