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  • Equipo de Stepper

paso a paso i-line

Un stepper i-line es un dispositivo de fotolitografía que utiliza una fuente de luz de longitud de onda de 365 nm para la exposición, utilizado principalmente en procesos de semiconductores de resolución a nivel micrón y en MEMS, dispositivos de potencia y otros campos. Sus ventajas incluyen alta estabilidad y bajo costo, lo que lo hace adecuado para procesos maduros y aplicaciones de fotoresistencias gruesas.

El stepper i-line logra una transferencia de patrón de alta precisión proyectando un patrón de circuito a escala reducida desde una máscara sobre la superficie de un wafer recubierto de fotoresistencia. La resolución de un stepper de línea i es típicamente de alrededor de 350 nm, adecuado para procesos maduros y la fabricación de estructuras a nivel micrón. Debido a la longitud de onda más larga de la fuente de luz utilizada, el sistema i-line exhibe un excelente rendimiento en términos de grosor de fotoresist y tolerancia a la deformación de obleas, lo que lo hace particularmente adecuado para procesos de fotoresist grueso y obleas de semiconductores compuestos con deformaciones significativas, como SiC y GaN. El equipo está equipado con un sistema de enfoque automático, nivelación multipunto y alineación de alta precisión para garantizar la calidad de la exposición y la precisión de la superposición de patrones multicapa. En comparación con el equipo avanzado de litografía ultravioleta profunda, los stepper i-line son menos costosos, más estables en operación y más fáciles de mantener, lo que los hace adecuados para requisitos de resolución baja a media y aplicaciones de producción de alto volumen. Además, los escaladores de línea i también se utilizan con frecuencia en los campos de la educación y la I+D debido a su menor precio y menor umbral de funcionamiento. En general, los stepper i-line continúan desempeñando un papel importante en los procesos de fabricación maduros y son particularmente adecuados para aplicaciones como dispositivos de potencia, MEMS y sensores.

Especificaciones
  • Resolución: Hasta 350 nm (opcional)
  • Apertura numérica (NA): 0.45
  • Fuente de luz de exposición: i-line (365 nm)
  • Relación de Reducción: 1:5
  • Campo de Exposición Máximo: 22 mm × 22 mm
  • Precisión de Superposición: SMO (Precisión de Superposición en la Misma Máquina) ≤ 70 nm (opcional)
  • Tamaño de Wafer: Soporta wafers de 2 a 8 pulgadas
  • Grosor y Deformación del Wafer: Soporta varios grosores y deformaciones de wafers
  • Alineación por la Parte Trasera: Tipo transmisivo IR
  • Amplio DOF: Extiende el rango de profundidad de campo
  • AF Multipunto: Mejora el enfoque horizontal
Configuración
  • Fuente de luz de exposición
  • Óptica de proyección y aumento
  • Resolución y apertura numérica (NA)
  • Tamaño del campo de exposición (campo de exposición máximo)
  • Sistema de alineación (control de superposición)
Opciones
  • Enfoque automático de múltiples puntos (AF)
  • Amplia profundidad de campo (DOF)
  • Alineación trasera (tipo de transmisión IR)
  • Soporta varios tamaños y grosores de obleas, y tolerancia a la deformación
  • Mecanismo de corrección de nivelación de plataforma de obleas de precisión
Aplicaciones
  • Proceso de fabricación de MEMS
  • Sensores y empaques
  • Procesos de nodo maduro (>90nm) en memoria
  • Procesos de fabricación de obleas de semiconductores compuestos (SiC, GaN)
  • Aplicaciones educativas y de I+D

paso a paso i-lineEquipo de Proceso de Semiconductores y Optoelectrónicos Personalizado Profesional

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