i-line Stepper步進機

i‑line 步進機（i‑line stepper）是一種利用365奈米波長光源進行光刻曝光的設備，主要應用於微米級解析度的半導體製程及MEMS、功率元件等領域。其優勢在於穩定性高、成本較低，適合成熟製程和厚光阻應用。

i‑line stepper通過將掩模上的電路圖案縮小投影到塗覆光阻的晶圓表面，實現高精度圖案轉移。i-line 步進機的解析度通常約為350奈米，適合成熟製程和微米級結構製作。由於使用的光源波長較長，i-line 系統在光阻厚度和晶圓翹曲容忍度方面表現優異，特別適合厚光阻工藝與翹曲較大的化合物半導體晶圓，如SiC和GaN。設備配備自動對焦、多點校平和高精度對準系統，確保曝光品質和多層圖案的重疊精度。相比較先進的深紫外光刻設備，i-line 步進機成本較低，操作穩定且維護方便，適合中低解析度需求和大批量生產的應用。此外，i-line 步進機也常用於教育與研發領域，因為其價格和操作門檻較低。整體而言，i-line 步進機在成熟製程中仍扮演著重要角色，尤其適合功率元件、MEMS及感測器等應用。

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產品規格

解像度（Resolution）：最高可達 350 nm（選配）
數值孔徑（NA）：0.45
曝光光源（Exposure Light Source）：i-line（365 nm）
縮小倍率（Reduction Ratio）：1:5
最大曝光範圍（Maximum Exposure Field）：22 mm × 22 mm
重疊精度（Overlay）：SMO（同機重疊精度）≦ 70 nm（選配）
晶圓尺寸（Wafer Size）：支援 2～8 英寸晶圓
晶圓厚度與翹曲度（Wafer Thickness & Warpage）：支援各種晶圓厚度與翹曲度
背面對準（Backside Alignment）：IR 透射型
景深擴展（Wide DOF）：擴展景深範圍
多點自動對焦（Multipoint AF）：提高水平

產品配備

曝光光源
投影光學鏡頭與縮小倍率
解析度與數值孔徑 (NA)
曝光場大小 (Exposure Field Size / Maximum Exposure Field)
對準系統 (Alignment / Overlay Control)

產品選配

多點自動對焦 (Multipoint Autofocus, AF)
擴展景深 (Wide Depth of Focus, DOF)
背面對準 (Backside Alignment, IR Transmission Type)
支援各種晶圓尺寸與厚度，以及翹曲容忍度
精密晶圓舞台校平機制（Wafer Stage Leveling / Platform Tilt Correction）

應用產業

MEMS 製程
感測器與封裝（Sensors & Packaging)
記憶體中成熟節點（>90nm）製程
化合物半導體（SiC、GaN）晶圓製程
教育與研發用途

科毅 i-line Stepper步進機簡介

科毅科技股份有限公司是台灣一家擁有超過25年經驗的專業i-line Stepper步進機生產製造服務商。我們成立於西元2000年, 在服務半導體、光電子和先進製造市場領域上, 科毅提供專業高品質的i-line Stepper步進機製造服務, 科毅總是可以達成客戶各種品質要求。

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i-line Stepper步進機

i‑line 步進機（i‑line stepper）的功能主要是進行光刻曝光。 / 整合光刻、塗佈、顯影與光罩製作，打造高度客製化與自動化製程設備