Stepper i-line - Stepper i-line
  • Stepper i-line - Stepper i-line
  • Équipement de stepper

Stepper i-line

Un stepper i-line est un dispositif de photolithographie qui utilise une source lumineuse à longueur d'onde de 365 nm pour l'exposition, principalement utilisé dans les processus de semi-conducteurs à résolution micrométrique et dans les MEMS, les dispositifs de puissance et d'autres domaines. Ses avantages incluent une grande stabilité et un faible coût, ce qui le rend adapté aux processus matures et aux applications de résine photosensible épaisse.

Le stepper i-line réalise un transfert de motif haute précision en projetant un motif de circuit réduit à partir d'un masque sur la surface d'une plaquette recouverte de photoresist. La résolution d'un stepper i-line est généralement d'environ 350 nm, adaptée aux processus matures et à la fabrication de structures au niveau micrométrique. En raison de la longueur d'onde plus longue de la source lumineuse utilisée, le système i-line présente d'excellentes performances en termes d'épaisseur de photoresist et de tolérance à la déformation des plaquettes, ce qui le rend particulièrement adapté aux processus de photoresist épais et aux plaquettes de semi-conducteurs composés avec une déformation significative, telles que le SiC et le GaN. L'équipement est équipé d'un autofocus, d'un nivellement multipoint et d'un système d'alignement haute précision pour garantir la qualité d'exposition et la précision du chevauchement des motifs multicouches. Comparé aux équipements de lithographie ultraviolette profonde avancés, les steppers i-line sont moins chers, plus stables en fonctionnement et plus faciles à entretenir, ce qui les rend adaptés aux exigences de résolution basse à moyenne et aux applications de production à volume élevé. De plus, les steppers i-line sont également fréquemment utilisés dans les domaines de l'éducation et de la R&D en raison de leur prix inférieur et de leur seuil de fonctionnement plus bas. Dans l'ensemble, les steppers i-line continuent de jouer un rôle important dans les processus de fabrication matures et sont particulièrement adaptés à des applications telles que les dispositifs de puissance, les MEMS et les capteurs.

Spécifications
  • Résolution : jusqu'à 350 nm (optionnel)
  • Ouverture numérique (NA) : 0,45
  • Source de lumière d'exposition : i-line (365 nm)
  • Ratio de réduction : 1:5
  • Champ d'exposition maximum : 22 mm × 22 mm
  • Précision de superposition : SMO (Précision de superposition sur la même machine) ≤ 70 nm (optionnel)
  • Taille de wafer : Prend en charge des wafers de 2 à 8 pouces
  • Épaisseur et déformation du wafer : Prend en charge diverses épaisseurs et déformations de wafers
  • Alignement arrière : Type transmissif IR
  • Large DOF : Étend la plage de profondeur de champ
  • AF multipoint : Améliore la mise au point horizontale
Configuration
  • Source de lumière d'exposition
  • Optique de projection et grossissement
  • Résolution et ouverture numérique (NA)
  • Taille du champ d'exposition (champ d'exposition maximum)
  • Système d'alignement (contrôle de superposition)
Possibilités
  • Autofocus multi-point (AF)
  • Profondeur de champ large (DOF)
  • Alignement arrière (type de transmission IR)
  • Prend en charge diverses tailles et épaisseurs de plaquettes, ainsi que la tolérance au gauchissement
  • Mécanisme de correction de nivellement de la plateforme de plaquette de précision
Applications
  • Processus de fabrication MEMS
  • Capteurs et emballage
  • Processus de nœud mature (>90nm) en mémoire
  • Processus de fabrication de wafers de semi-conducteurs composés (SiC, GaN)
  • Applications éducatives et R&D

Stepper i-lineÉquipement de processus semi-conducteurs et optoélectroniques sur mesure

M&R NANO TECHNOLOGY fournit des équipements de processus de haute qualité en Stepper i-line et en semi-conducteurs & optoélectronique, conçus pour des applications avancées en semi-conducteurs, optoélectronique et tests.Notre gamme de produits comprend des aligneurs de masques détaillés, des revêtements par rotation et des développeurs fabriqués dans notre usine de Taoyuan, à Taïwan, dotée de fortes capacités d'automatisation.

Nous nous concentrons sur la livraison d'une qualité stable et d'une personnalisation précise grâce à notre R&D interne et à notre technologie de miniaturisation. Cela garantit que chaque système répond à des exigences de processus strictes tout en maintenant une durabilité pratique, un faible coût et une haute efficacité pour les utilisateurs finaux.

Pour les acheteurs mondiaux, M&R NANO TECHNOLOGY offre un support de fabrication fiable qui simplifie le processus d'approvisionnement. Nous fournissons une communication réactive, une intégration d'automatisation efficace et un entretien après-vente constant pour aider les clients à mettre en production avec succès leur équipement de traitement des semi-conducteurs et optoélectroniques.