i-line Stepper步进机

i‑line 步进机（i‑line stepper）是一种利用365奈米波长光源进行光刻曝光的设备，主要应用于微米级分辨率的半导体制程及MEMS、功率组件等领域。其优势在于稳定性高、成本较低，适合成熟制程和厚光阻应用。

i‑line stepper通过将掩模上的电路图案缩小投影到涂覆光阻的晶圆表面，实现高精度图案转移。i-line 步进机的分辨率通常约为350奈米，适合成熟制程和微米级结构制作。由于使用的光源波长较长，i-line 系统在光阻厚度和晶圆翘曲容忍度方面表现优异，特别适合厚光阻工艺与翘曲较大的化合物半导体晶圆，如SiC和GaN。设备配备自动对焦、多点校平和高精度对准系统，确保曝光质量和多层图案的重迭精度。相比较先进的深紫外光刻设备，i-line 步进机成本较低，操作稳定且维护方便，适合中低分辨率需求和大批量生产的应用。此外，i-line 步进机也常用于教育与研发领域，因为其价格和操作门坎较低。整体而言，i-line 步进机在成熟制程中仍扮演着重要角色，尤其适合功率组件、MEMS及传感器等应用。

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产品规格

解像度（Resolution）：最高可达 350 nm（选配）
数值孔径（NA）：0.45
曝光光源（Exposure Light Source）：i-line（365 nm）
缩小倍率（Reduction Ratio）：1:5
最大曝光范围（Maximum Exposure Field）：22 mm × 22 mm
重迭精度（Overlay）：SMO（同机重迭精度）≦ 70 nm（选配）
晶圆尺寸（Wafer Size）：支援 2～8 英寸晶圆
晶圆厚度与翘曲度（Wafer Thickness & Warpage）：支援各种晶圆厚度与翘曲度
背面对准（Backside Alignment）：IR 透射型
景深扩展（Wide DOF）：扩展景深范围
多点自动对焦（Multipoint AF）：提高水平

产品配备

曝光光源
投影光学镜头与缩小倍率
分辨率与数值孔径 (NA)
曝光场大小 (Exposure Field Size / Maximum Exposure Field)
对准系统 (Alignment / Overlay Control)

产品选配

多点自动对焦 (Multipoint Autofocus, AF)
扩展景深 (Wide Depth of Focus, DOF)
背面对准 (Backside Alignment, IR Transmission Type)
支持各种晶圆尺寸与厚度，以及翘曲容忍度
精密晶圆舞台校平机制（Wafer Stage Leveling / Platform Tilt Correction）

应用产业

MEMS 制程
传感器与封装（Sensors & Packaging)
内存中成熟节点（>90nm）制程
化合物半导体（SiC、GaN）晶圆制程
教育与研发用途

科毅 i-line Stepper步进机简介

科毅科技股份有限公司是台湾一家拥有超过25年经验的专业i-line Stepper步进机生产制造服务商。我们成立于西元2000年, 在服务半导体、光电子和先进制造市场领域上, 科毅提供专业高品质的i-line Stepper步进机制造服务, 科毅总是可以达成客户各种品质要求。

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i-line Stepper步进机

i‑line 步进机（i‑line stepper）的功能主要是进行光刻曝光。 / 整合光刻、涂布、显影与光罩制作，打造高度定制化与自动化制程设备