科毅的手動曝光機是一款專為初期研發、實驗室與小量試製打造的高 CP 值曝光設備。其最大特色，就是以入門級、桌上型的精巧設計，提供最靈活、最經濟的微影解決方案。設備體積小、容易安裝，不僅能節省實驗空間，也大幅降低購置成本，特別適合預算有限、需要多台分散式工作站的團隊。

手動操作更是這款設備的重要優勢。對位方式直觀、好學，不論是學生、研究人員或工程師，都能快速上手並立即投入製程驗證。因為沒有複雜的自動化流程，用戶可以自由調整各項參數，方便進行試驗、錯誤修正與製程探索。

在樣品保護上，部分型號採用非接觸式設計，能避免壓傷晶圓，對薄晶片、MEMS 結構或翹曲晶圓尤其友善，大幅提升實驗的成功率與可靠性。

值得一提的是，科毅手動曝光機具備高度升級彈性。使用者可依需求選配電動平台，將 XY 軸精度提升至 40 nm，從手動入門一路升級到進階驗證，不需更換整套設備，延展性極高。

科毅手動曝光機以低成本、易操作、高穩定度與可擴充性，為客戶提供了一個兼具彈性與效益的微影製程起點，是教育單位、研發中心與新創團隊的理想選擇。

產品規格

• 適用晶圓尺寸：2”～6”
• XY 行程：200mm
• XY 軸精度：電動 40nm / 手動 1µm (依型號不同)
• Z 軸行程：無或簡易調整機構
• 對位精度：1.0~2.0µm (手動)
• 曝光分辨率：0.8µm～1.0µm
• 對位方式：人工視覺辨識
• 曝光模式：非接觸 / 接觸式 (依型號不同)
• 控制系統：IPC (部分型號)

產品配備

• 桌上型輕量化設計
• 基本曝光控制模組
• IPC 操作介面 (部分型號)

產品選配

• 簡易真空吸盤光罩固定
• 客製化光學模組
• 基本影像輔助對位系統

應用產業

• 研究單位與大學實驗室
• 初期製程開發
• 光電與 MEMS 研發
• 小批量試製