Semi-Auto Mask Aligner

• Exposure light source: 350W、500W、1KW、2KW
• Substrate Size: 2"~12"
• Uniformity: ≦ 5%
• Alignment Accuracy: ± 1um
• Throughput: ≧ 70wph

應用範圍:

• 半導體(Semiconductor)
• 微機電(MEMS)
• 被動元件(Passive Component)
• 觸控面板(Touch Panel)
• 顯示器(Display Panel)
• 發光二極體