Auto Mask Aligner

Auto Mask Aligner

基本規格

  • Exposure light source: 3.5KW、5KW、8KW、10KW
  • Substrate Size: 4.5"~12" 方形基板
  • Uniformity: ≦ 5%
  • Alignment Accuracy: ± 5um
  • Throughput: 8~10pnl/min

應用領域

應用範圍:

  • 半導體(Semiconductor)、微機電(MEMS)
  • 被動元件(Passive Component)、觸控面板(Touch Panel)
  • 顯示器(Display Panel)、發光二極體(LED)