i-line Stepper步进机
i‑line 步进机(i‑line stepper)是一种利用365奈米波长光源进行光刻曝光的设备,主要应用于微米级分辨率的半导体制程及MEMS、功率组件等领域。其优势在于稳定性高、成本较低,适合成熟制程和厚光阻应用。 i‑line...
细节光罩
科毅科技提供高分辨率、低缺陷的光罩制作服务,支持 MEMS、光电、传感器与半导体等微影制程需求。采用高平坦度基板与高质量铬膜,确保曝光图样能精准转移至光阻层,协助客户提升曝光成功率、缩短研发与试产周期。无论应用于研发验证、原型制作或小量试产,皆能提供稳定可靠的制程支持。 在材料与制作质量上,科毅科技可依据客户版图与制程需求,选用石英或玻璃等高平坦度基板,搭配具备良好光学稳定性的铬膜(Cr)或专用光学材料,支持从微米级到奈米级线宽的图样转移。同时提供完整的前后段配套服务,包含版图检查、数据转换、尺寸验证与瑕疵检测,让客户能安心专注于制程开发与量产导入。快速交期与稳定质量,使科毅成为众多学研单位与产业客户长期合作的光罩服务伙伴。
细节










