i-line Stepper步進機
i‑line 步進機(i‑line stepper)是一種利用365奈米波長光源進行光刻曝光的設備,主要應用於微米級解析度的半導體製程及MEMS、功率元件等領域。其優勢在於穩定性高、成本較低,適合成熟製程和厚光阻應用。 i‑line...
細節光罩
科毅科技提供高解析度、低缺陷的光罩製作服務,支援 MEMS、光電、感測器與半導體等微影製程需求。採用高平坦度基板與高品質鉻膜,確保曝光圖樣能精準轉移至光阻層,協助客戶提升曝光成功率、縮短研發與試產週期。無論應用於研發驗證、原型製作或小量試產,皆能提供穩定可靠的製程支援。 在材料與製作品質上,科毅科技可依據客戶版圖與製程需求,選用石英或玻璃等高平坦度基板,搭配具備良好光學穩定性的鉻膜(Cr)或專用光學材料,支援從微米級到奈米級線寬的圖樣轉移。同時提供完整的前後段配套服務,包含版圖檢查、資料轉換、尺寸驗證與瑕疵檢測,讓客戶能安心專注於製程開發與量產導入。快速交期與穩定品質,使科毅成為眾多學研單位與產業客戶長期合作的光罩服務夥伴。
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